特許
J-GLOBAL ID：200903028378806779
アドバンストプロセスコントロール(APC)フレームワークを用いた処理ツールの故障検出およびその制御のための方法および装置
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 野田 久登
, 酒井 將行
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-515536
公開番号（公開出願番号）：特表2004-505366
出願日： 2001年07月03日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
アドバンストプロセスコントロール(APC)フレームワーク(135)における故障の検出を提供するための方法および装置である。第1のインターフェイス(110)が、処理片の製造に関連する処理ツール(105)の動作状態データを受信する。状態データは、第1のインターフェイス(110)から故障検出ユニット(120)に送信される。故障検出ユニット(120)は、状態データに基づいて故障条件が処理ツール(105)に存在するかを判定する。故障条件の存在に応答して予め定められた処置が処理ツール(105)に対して行なわれる。第1の実施例に従えば、予め定められた操作は、故障ウェハのさらなる製造を防ぐために処理ツール(105)をシャットダウンすることである。
請求項（抜粋）：
処理片の製造に関する処理ツール(105)の動作状態データを第1のインターフェイス(110)で受信するステップと、
状態データを第1のインターフェイス(110)から故障検出ユニット(120)に送信するステップと、
状態データに基づいて処理ツール(105)に故障条件が存在するかを判定するステップと、
故障条件の存在に応答して予め定められた処置を処理ツール(105)に対して行なうステップとを含む、方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G05B19/418 Z
, G05B23/02 302J
3C100AA56
, 3C100BB29
, 3C100BB33
, 3C100CC08
, 3C100EE06
, 5H223AA05
, 5H223CC01
, 5H223CC03
, 5H223DD09
, 5H223EE04
出願人引用 (14件)
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特開昭63-307755
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イオン注入装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-200511
出願人：日新電機株式会社
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イオン注入制御装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-029681
出願人：日新電機株式会社
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審査官引用 (18件)
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特開平2-010682
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特開昭63-307755
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特開平2-010682
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