特許
J-GLOBAL ID：200903028665372445

プラズマ処理用環状部品、プラズマ処理装置、及び外側環状部材

発明者：
村上 貴宏

村上 貴宏 について

, 
佐藤 信浩

佐藤 信浩 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (5件)： 別役 重尚 ,  村松 聡 ,  後藤 夏紀 ,  池田 浩 ,  二宮 浩康
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-255179
公開番号（公開出願番号）：特開2007-067353
出願日： 2005年09月02日
公開日（公表日）： 2007年03月15日
要約：
【課題】 ウエハの歩留まりの悪化を防止し且つクリーニングのサイクルを長くすることができると共に、容易に用いることができるプラズマ処理用環状部品を提供する。 【解決手段】 プラズマ処理装置10は、チャンバ11内において下部電極12に載置されたウエハの外周を囲うように配されているフォーカスリング19を備え、該フォーカスリング19は、円環状のインナーフォーカスリング部材20と、該インナーフォーカスリング部材20の外周を囲うように配される円環状の平板部材であるアウターフォーカスリング部材21とを有し、アウターフォーカスリング部材21では、処理空間S側を指向するプラズマ暴露面21aと反対側を指向するカバー部材接触面21bにおいてアウターフォーカスリング部材21と同心円状の環状のリング溝34が形成されている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
プラズマ処理が施される基板の外周を囲うように配される内側環状部材と、該内側環状部材の外周を囲うように配される外側環状部材とを備えるプラズマ処理用環状部品であって、 前記外側環状部材はプラズマが生成されるプラズマ生成空間側を指向する第1の面及び前記プラズマ生成空間側とは反対側を指向する第2の面を有し、該第2の面には少なくとも1つの環状の溝が形成されることを特徴とするプラズマ処理用環状部品。
IPC (2件)：
H01L 21/306 ,  C23C 16/509
FI (2件)：
H01L21/302 101G ,  C23C16/509
Fターム (15件)：
4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA03 ,  4K030KA14 ,  4K030KA45 ,  4K030LA15 ,  5F004AA16 ,  5F004BA09 ,  5F004BB11 ,  5F004BB23 ,  5F004BB29 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA16 ,  5F004DA23
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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