特許
J-GLOBAL ID：200903028713854910

CVD装置及びCVD方法

発明者：
元原 裕二

元原 裕二 について

, 
高橋 武良

高橋 武良 について


出願人/特許権者：
株式会社カネカ

株式会社カネカ について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-378760
公開番号（公開出願番号）：特開2005-139524
出願日： 2003年11月07日
公開日（公表日）： 2005年06月02日
要約：
【課題】 埃や生成物が残留する懸念がなく、高品質の薄膜を形成させることが可能であり、かつ製造コストやメンテナンスコストが低いCVD装置を開発する。 【解決手段】 基体受取・払出し装置2と、成膜チャンバー群3と、移動用チャンバー5及びチャンバー移動装置32によって構成される。成膜チャンバー15の成膜室出入口には気密性を有するシャッターが設けられているが、移動用チャンバー5の収納室出入口は常時開放である。チャンバー移動装置32によって基体受取・払出し装置2の位置に移動用チャンバー5が移動し、基体キャリア72を、移動用チャンバー5側に移送する。またチャンバー移動装置32によって移動用チャンバー5を成膜チャンバー15と接合し、基体キャリア72を、成膜チャンバー15に移動させる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
所定形状の基体に対して薄膜を成膜するCVD装置において、複数の成膜チャンバーと、1以上の移動用チャンバーを備え、前記成膜チャンバーは基体に成膜する成膜室と、当該成膜室に基体を出し入れする成膜室出入口を備え、前記成膜室出入口には気密性を有するシャッターが設けられ、前記成膜室には成膜室側減圧装置が接続されており、前記移動用チャンバーは基体を収納する収納室と、当該収納室に基体を出し入れする収納室出入口を有し、前記収納室出入口は、常時開放であるか又は気密性を有しない閉塞部材が設けられており、前記収納室には収納室側減圧装置が接続されており、前記成膜チャンバーは定位置に固定され、前記移動用チャンバーは移動可能であり、移動用チャンバーを移動してその収納室出入口を成膜チャンバーの成膜室出入口に気密的に接合可能であり、成膜室出入口のシャッターを閉じた状態で収納室側減圧装置によって前記シャッターと収納室によって閉塞される空間を減圧し、その後に前記シャッターを開いて移動用チャンバー側の基体を成膜チャンバーの成膜室に移送可能であることを特徴とするCVD装置。
IPC (1件)：
C23C16/44
FI (2件)：
C23C16/44 F ,  C23C16/44 B
Fターム (10件)：
4K030BB12 ,  4K030CA06 ,  4K030CA17 ,  4K030FA01 ,  4K030GA12 ,  4K030HA01 ,  4K030KA11 ,  4K030KA23 ,  4K030KA28 ,  4K030LA16
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特公昭63-12138号公報
  • 特開平4-329883号公報
審査官引用 (7件)
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