特許
J-GLOBAL ID：200903028929809065

ナノインプリント用組成物

発明者：
佐藤 弘幸

佐藤 弘幸 について

, 
出山 佳宏

出山 佳宏 について

, 
山廣 幹夫

山廣 幹夫 について


出願人/特許権者：
チッソ株式会社

チッソ株式会社 について


代理人 (4件)： 小林 浩 ,  片山 英二 ,  古橋 伸茂 ,  鈴木 康仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-002224
公開番号（公開出願番号）：特開2008-168480
出願日： 2007年01月10日
公開日（公表日）： 2008年07月24日
要約：
【課題】繰り返しモールドを押し付けてもレリーフパターンの形状が維持され、かつレリーフパターン表面が界面活性剤等の離型剤等で汚染されないナノインプリント用組成物が求められている。【解決手段】炭素数1〜100の有機基を有するフルオロシルセスキオキサンであるフッ素含有化合物(C)を含むナノインプリント用組成物、および、当該組成物を基板に塗布し加熱することによって塗膜を形成し、当該塗膜にモールドを押し当て、モールドに刻まれたパターンのネガ像が形成されたレリーフパターンを形成する、レリーフパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
炭素数1〜100の有機基を有するフルオロシルセスキオキサンであるフッ素含有化合物(C)を含むナノインプリント用組成物。
IPC (5件)：
B29C 59/02 ,  C08L 83/08 ,  H01L 21/027 ,  C08L 101/00 ,  C08L 79/08
FI (5件)：
B29C59/02 Z ,  C08L83/08 ,  H01L21/30 502D ,  C08L101/00 ,  C08L79/08 A
Fターム (26件)：
4F209AA16 ,  4F209AA33 ,  4F209AA36 ,  4F209AA44 ,  4F209AC05 ,  4F209PA01 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  4F209PQ14 ,  4J002BG07X ,  4J002CD02Z ,  4J002CD05Z ,  4J002CD19X ,  4J002CM04Y ,  4J002CP08W ,  4J002EB106 ,  4J002EN136 ,  4J002EV296 ,  4J002EW176 ,  4J002GH00 ,  4J002GS00 ,  5F046BA10
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (7件)
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