特許
J-GLOBAL ID：200903029391076131

化学増幅型レジスト材料

発明者：
山名 慎治

山名 慎治 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-289789
公開番号（公開出願番号）：特開2000-122292
出願日： 1998年10月12日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：
【要約】【課題】 マスクパタンの粗密の違いにかかわらず、レジストパタンに寸法差の生じることがないようにする。【解決手段】 一般式(1)からなるベース樹脂と、光酸発生剤と、アルカリ可溶でありかつ前記ベース樹脂に対する重量パーセント比が0.1〜15%の範囲でありかつ保護率が0%でありかつ重量平均分子量が5,000〜20,000である高分子樹脂からなる溶解促進剤とを含むものである。【化1】【化2】【化3】【化4】(式中のRは前記一般式(2),(3)または(4)の何れかで表される保護基を示し、m,nは自然数である。)
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)からなるベース樹脂と、光酸発生剤と、アルカリ可溶でありかつ前記ベース樹脂に対する重量パーセント比が0.1〜15%の範囲でありかつ保護率が0%でありかつ重量平均分子量が5,000〜20,000である高分子樹脂からなる溶解促進剤とを含むことを特徴とする化学増幅型レジスト材料。【化1】【化2】【化3】【化4】(式中のRは前記一般式(2),(3)または(4)の何れかで表される保護基を示し、m,nは自然数である。)
IPC (4件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/20 502
FI (4件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/20 502
Fターム (20件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB55 ,  2H025CC20 ,  2H025FA15 ,  2H097BB01 ,  2H097CA13 ,  2H097CA17 ,  2H097FA03
引用特許：
審査官引用 (10件)
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