特許
J-GLOBAL ID：200903029450897772
露光方法およびデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-136080
公開番号（公開出願番号）：特開平10-312957
出願日： 1997年05月09日
公開日（公表日）： 1998年11月24日
要約：
【要約】【課題】 ウエハ等の基板が露光中に熱膨張することによって生じる線幅精度の悪化を低減させることができる露光方法を実現する。【解決手段】 予め露光実験や計算によって、1ショット露光中に生じる基板の熱膨張等による変形を算出し、このデータに基づいて基板の変形を打ち消すように機能する補正テーブルを蓄積した補正手段13を用い、ショット露光中にステージ制御部11を介して基板5を面内方向へ駆動させて、ショット露光の熱膨張による基板5のショット中心の並進をキャンセルさせ、そして、ショット露光中に倍率補正制御部11を介して転写倍率補正機構10を駆動させて、原版4に外力を加えてその倍率を変化させて、基板5のショット中心を中心とした拡大をキャンセルするように作用させる。これにより、基板5が露光中に熱膨張することによって生じる線幅精度の悪化を低減させることができる。
請求項（抜粋）：
原版に形成されたパターンを基板に転写する露光方法において、露光中に、前記原版と前記基板を相対的に移動させかつ転写倍率補正機構を駆動させることを特徴とする露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, H01L 21/68
H01L 21/30 516 A
, G03F 7/20 521
, H01L 21/68 K
