特許
J-GLOBAL ID:200903029931374315
検査方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高矢 諭 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-060002
公開番号(公開出願番号):特開2001-250109
出願日: 2000年03月06日
公開日(公表日): 2001年09月14日
要約:
【要約】【課題】 同一パターンを落射照明下で撮像して得られる2つの被検査画像に基づいて該パターンの欠陥を検査する際に、検査精度を向上できるようにする。【解決手段】 ワークに形成されている2つの同一パターンを落射照明下で撮像して第1及び第2の被検査画像(A)、(B)をそれぞれ入力し、これら第1及び第2の被検査画像の2値画像(C)、(D)を互いに位置合わせし、両画像の対応する画素間で排他的論理和の演算を実行して欠陥候補画像(E)を作成し、位置合わせ後の前記両画像の対応する画素間で論理和の演算を実行して背景画像(F)を作成し、該背景画像の高輝度領域を収縮させ、前記欠陥候補画像のエッジ部分より内側に入る収縮背景画像(G)を作成し、該収縮背景画像及び前記欠陥候補画像の対応する画素間で論理積の演算を実行して判定画像(F)を作成し、該判定画像に基づいて、前記同一パターンに発生している欠陥を検出する。
請求項(抜粋):
ワークに形成されている2つの同一パターンを落射照明下で撮像して第1及び第2の被検査画像をそれぞれ入力し、入力された第1及び第2の被検査画像を、それぞれ2値化すると共に互いに位置合わせし、両2値画像の対応する画素間で排他的論理和の演算を実行して欠陥候補画像を作成すると共に、位置合わせ後の前記両2値画像の対応する画素間で論理和の演算を実行して背景画像を作成し、次いで該背景画像の高輝度領域を収縮させ、前記欠陥候補画像に生じているエッジ部分より内側に入る収縮背景画像を作成し、該収縮背景画像及び前記欠陥候補画像の対応する画素間で論理積の演算を実行して判定画像を作成し、該判定画像に基づいて、前記同一パターンに発生している欠陥を検出することを特徴とする検査方法。
IPC (5件):
G06T 1/00 305
, G01B 11/24
, G01B 11/30
, G01N 21/88
, G06T 7/00 300
FI (7件):
G06T 1/00 305 A
, G01B 11/30 A
, G01N 21/88 Z
, G06T 7/00 300 Z
, G01B 11/24 F
, G01B 11/24 K
, G01B 11/24 H
Fターム (51件):
2F065AA49
, 2F065AA56
, 2F065AA58
, 2F065BB02
, 2F065CC25
, 2F065FF42
, 2F065FF61
, 2F065HH13
, 2F065JJ03
, 2F065JJ09
, 2F065JJ19
, 2F065JJ26
, 2F065KK02
, 2F065PP11
, 2F065PP15
, 2F065QQ00
, 2F065QQ04
, 2F065QQ24
, 2F065QQ32
, 2F065RR01
, 2F065RR09
, 2F065TT01
, 2F065TT02
, 2F065TT03
, 2G051AA62
, 2G051AA90
, 2G051AB02
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051DA13
, 2G051EA11
, 2G051ED03
, 2G051ED08
, 2G051ED15
, 5B057AA01
, 5B057BA11
, 5B057CH01
, 5B057DA03
, 5B057DB02
, 5B057DB09
, 5B057DC09
, 5B057DC16
, 5B057DC22
, 5L096BA03
, 5L096CA02
, 5L096EA02
, 5L096FA06
, 5L096GA08
, 5L096GA22
, 5L096GA23
, 5L096GA24
引用特許:
審査官引用 (11件)
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特開平3-111977
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パターン検査方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-222567
出願人:ソニー株式会社
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パターン検査方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-291652
出願人:ソニー株式会社
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影を消去する画像処理方法、画像監視方法および装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-013335
出願人:株式会社日立製作所
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欠け検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-313280
出願人:積水化学工業株式会社
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プリント基板の検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-196270
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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画像検査方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-325933
出願人:株式会社ヒューブレイン
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特開平1-054580
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パターン欠陥検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-296447
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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特開昭63-061373
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特開昭61-251705
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