特許
J-GLOBAL ID：200903030164757465

縦型熱処理装置及び被処理体移載方法

発明者：
浅利 聡

浅利 聡 について

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三原 勝彦

三原 勝彦 について

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菊池 浩

菊池 浩 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-055271
公開番号（公開出願番号）：特開2005-311306
出願日： 2005年03月01日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：
【課題】 リング状支持板を有する保持具に対して被処理体を複数枚ずつ移載可能とし、移載時間の短縮、処理枚数の増大及びスループットの向上を図る。【解決手段】 熱処理炉3の炉口4を密閉する蓋体6と、該蓋体6上に設けられ多数枚の被処理体wをリング状支持板15を介して所定間隔で保持する保持具9と、該保持具9を熱処理炉3に搬入搬出する昇降機構11と、複数枚の被処理体wを所定間隔で収納する収納容器16と保持具9との間で被処理体wの移載を行う複数枚の基板支持具20を所定間隔で有する移載機構21とを備え、該移載機構21の各基板支持具20下に被処理体wを上掴みする上掴み機構28を設け、該上掴み機構28は基板支持具20の先端部に設けられ被処理体wの前縁部を係止する固定係止部30と、基板支持具20の後端側に設けられ被処理体wの後縁部を着脱可能に係止する可動係止部31とを有している。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
下部に炉口を有する熱処理炉と、その炉口を密閉する蓋体と、該蓋体上に設けられ多数枚の被処理体をリング状支持板を介して上下方向に所定間隔で保持する保持具と、前記蓋体を昇降させて保持具を熱処理炉に搬入搬出する昇降機構と、複数枚の被処理体を所定間隔で収納する収納容器と前記保持具との間で被処理体の移載を行う複数枚の基板支持具を所定間隔で有する移載機構とを備え、該移載機構の各基板支持具下に被処理体を上掴みする上掴み機構を設け、該上掴み機構は基板支持具の先端部に設けられ被処理体の前縁部を係止する固定係止部と、基板支持具の後端側に設けられ被処理体の後縁部を着脱可能に係止する可動係止部とを有していることを特徴とする縦型熱処理装置。
IPC (5件)：
H01L21/68 ,  B65G49/07 ,  H01L21/22 ,  H01L21/31 ,  H01L21/324
FI (8件)：
H01L21/68 D ,  H01L21/68 L ,  H01L21/68 N ,  H01L21/68 S ,  B65G49/07 F ,  H01L21/22 511J ,  H01L21/31 E ,  H01L21/324 S
Fターム (34件)：
5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA09 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031GA10 ,  5F031GA14 ,  5F031GA15 ,  5F031GA36 ,  5F031HA64 ,  5F031JA23 ,  5F031JA40 ,  5F031MA28 ,  5F031MA30 ,  5F031NA07 ,  5F031PA30 ,  5F045AA03 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AD09 ,  5F045AD10 ,  5F045AD11 ,  5F045AD12 ,  5F045AD13 ,  5F045AD14 ,  5F045AD15 ,  5F045AF01 ,  5F045BB08 ,  5F045BB20 ,  5F045DP19 ,  5F045DQ05 ,  5F045EM01 ,  5F045EM09
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (6件)
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