特許
J-GLOBAL ID：200903030299970045

X線発生装置

発明者：
前田 裕樹

前田 裕樹 について

, 
田村 知巳

田村 知巳 について


出願人/特許権者：
株式会社島津製作所

株式会社島津製作所 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-203513
公開番号（公開出願番号）：特開2006-024522
出願日： 2004年07月09日
公開日（公表日）： 2006年01月26日
要約：
【課題】 X線の線量を維持しつつ、電子ビームがターゲットに衝突する焦点を容易に変更することができるX線発生装置を提供する。【解決手段】 陰極1とターゲット3とを結ぶ軸Aに沿って2段に第1偏向コイル11と第2偏向コイル13とが設けられている。衝突位置変更制御部21は、これら偏向コイル11、13を連動操作することで、電子ビームeの中心軌道Eが絞り孔8を通過しつつ、絞り孔8へ入射する電子ビームeの中心軌道Eの方向を変える。これにより、絞り孔8を通過しターゲット3に到達する電子の量が減少することがないので、発生するX線の線量も低下することがない。さらに、絞り孔8へ入射する電子ビームeの中心軌道Eの方向を変えるようにすることで、焦点Fの位置を容易にかつ自在に変えることができる。したがって、焦点が損傷しても、容易に焦点Fの位置を変更することができる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
電子ビームを発生する電子源と、電子源に対向配置され、電子ビームの衝突によりX線を発生するターゲットと、電子源とターゲットとの間に配置され、通過する電子ビームの範囲を制限するように絞り孔が形成されている絞り手段とを備えるX線発生装置において、電子源と絞り手段との間に配置され、電子ビームを偏向する複数の偏向手段と、電子ビームの中心軌道が絞り孔を通過しつつ、絞り孔へ入射する電子ビームの中心軌道の方向を変えるように複数の偏向手段を連動操作して、電子ビームがターゲットに衝突する位置を変更する衝突位置変更制御手段とを備えることを特徴とするX線発生装置。
IPC (5件)：
H01J 35/30 ,  G21K 1/093 ,  G21K 5/08 ,  H01J 35/14 ,  H05G 1/00
FI (5件)：
H01J35/30 ,  G21K1/093 D ,  G21K5/08 X ,  H01J35/14 ,  H05G1/00 E
Fターム (7件)：
4C092AA01 ,  4C092AB19 ,  4C092AC01 ,  4C092AC08 ,  4C092BD16 ,  4C092CE07 ,  4C092CE08
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (9件)
  • X線撮像装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-048316   出願人：株式会社日立製作所
  • X線管の光軸合わせ方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-157010   出願人：株式会社島津製作所
  • X線発生装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-190542   出願人：株式会社島津製作所
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