特許
J-GLOBAL ID：200903030501153453

有機ELディスプレイの製造方法

発明者：
北爪 栄一

北爪 栄一 について

, 
水谷 和弘

水谷 和弘 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 高橋 詔男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-132762
公開番号（公開出願番号）：特開2001-313169
出願日： 2000年05月01日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、このような背景の下になされたもので、ディスプレイの開口率の向上と狭ピッチ化とを可能にし、非発光部である画素間を狭スペース化させ、かつ、有機EL素子のショートを無くし、クロストークや非点灯画素などの欠陥が生じない有機ELディスプレイの製造方法を提供する。【解決手段】 基板1とマスク11との間の距離、基板1と点蒸発源13との間の距離をパラメータとして蒸着物質の基板1の表面への入射角を任意に設定する。これにより、複数のそれぞれの蒸発源から蒸着物質が基板1の表面に対して所定の入射角で入射され、マスク11の開口部(スリット11a)から回り込んで蒸着されることにより、複数の蒸発源からの蒸着物質がそれぞれずれて重なり合うことで、この蒸着物質により成膜される電極パターン6の幅10が、マスク11の開口部の幅よりも太く成膜される。
請求項（抜粋）：
基板表面に第1の電極パターンをストライプ形状に形成する第1の工程と、前記電極パターンの表面を含む前記基板表面に、有機膜を含む複数層を形成する第2の工程と、電極材料の蒸発源と前記基板との間に、この基板と所定の距離を持ってマスクを配置し、このマスクのスリットから電極材料の蒸着物質を前記複数層表面に供給し、この複数層表面に第1の電極パターンに対して直交する第2の電極パターンをストライプ形状に形成する第3の工程とを有し、前記蒸着物質が前記基板に所定の入射角で供給される位置に、前記蒸発源を配置することを特徴とする有機ELディスプレイの製造方法。
IPC (5件)：
H05B 33/10 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/24 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14
FI (6件)：
H05B 33/10 ,  C23C 14/06 Q ,  C23C 14/24 C ,  C23C 14/24 G ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A
Fターム (26件)：
3K007AB02 ,  3K007AB04 ,  3K007AB08 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029BA21 ,  4K029BA42 ,  4K029BA50 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DA12 ,  4K029DB06 ,  4K029DB14 ,  4K029DB18 ,  4K029FA04 ,  4K029HA01 ,  4K029HA03
引用特許：
審査官引用 (7件)
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