特許
J-GLOBAL ID:200903031154482995

タンタルの炭化物、タンタルの炭化物の製造方法、タンタルの炭化物配線、タンタルの炭化物電極

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 梶 良之 ,  須原 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-223884
公開番号(公開出願番号):特開2005-068002
出願日: 2004年07月30日
公開日(公表日): 2005年03月17日
要約:
【課題】 簡易な方法で、所定の形状のタンタルの炭化物を形成することが可能であり、また、表面にタンタルの炭化物を被覆する場合であっても、均一な厚みのタンタルの炭化物を形成することができるとともに、熱履歴によっても剥離することのないタンタルの炭化物の製造方法及びその製造方法により得られるタンタルの炭化物並びにタンタルの炭化物配線及びタンタルの炭化物電極を提供する。【解決手段】 タンタル若しくはタンタル合金を真空熱処理炉内に設置し、前記タンタル若しくはタンタル合金表面に形成されている自然酸化膜であるTa2O5が昇華する条件下で熱処理を行い、前記Ta2O5を除去した後、前記真空熱処理炉内に炭素源を導入して熱処理を行い、前記タンタル若しくはタンタル合金表面にタンタルの炭化物を形成することを特徴とする。【選択図】図2
請求項(抜粋):
タンタル若しくはタンタル合金を真空熱処理炉内に設置し、前記タンタル若しくはタンタル合金表面に形成されている自然酸化膜であるTa2O5が昇華する条件下で熱処理を行い、前記Ta2O5を除去した後、前記真空熱処理炉内に炭素源を導入して熱処理を行い、前記タンタル若しくはタンタル合金表面からタンタルの炭化物を形成することを特徴とするタンタルの炭化物の製造方法。
IPC (2件):
C01B31/30 ,  H01L21/3205
FI (2件):
C01B31/30 ,  H01L21/88 M
Fターム (13件):
4G146MA06 ,  4G146MB27 ,  4G146NA02 ,  4G146NB01 ,  4G146NB06 ,  4G146NB15 ,  4G146NB18 ,  4G146NB19 ,  5F033GG01 ,  5F033HH36 ,  5F033QQ73 ,  5F033QQ85 ,  5F033QQ94
引用特許:
出願人引用 (10件)
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