マスクブランク及びその製造方法、並びに転写マスクの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大塚武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-281672
公開番号（公開出願番号）：特開2005-128516
出願日： 2004年09月28日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：

【課題】レジスト膜の面内膜厚均一性の保証エリア(実パターン形成領域)が拡大されても、所定の保証エリアで所望のレジスト膜の面内膜厚均一性(100Å以下)を得るマスクブランクの製造方法を提供する。【解決手段】四角形状の基板2上に、レジスト材料及び溶剤を含むレジスト液13を滴下し、前記基板2を回転させ、滴下されたレジスト液13を前記基板2上に広げるとともに、前記基板2上のレジスト液13を乾燥させて、前記基板2上に前記レジスト材料からなるレジスト塗布膜を形成する工程を有するマスクブランクの製造方法である。ここで、前記レジスト塗布膜を形成する工程において前記基板2が回転している間、前記基板2の上面に沿って基板2の中央側から外周方向に気流19を発生させるように排気手段18による排気を行い、基板2の回転により基板周縁部に形成されるレジスト液13の液溜まりが、基板中央方向へ移動するのを抑制する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

四角形状の基板上に、レジスト材料及び溶剤を含むレジスト液を滴下し、前記基板を回転させ、滴下されたレジスト液を前記基板上に広げるとともに、前記基板上のレジスト液を乾燥させて、前記基板上に前記レジスト材料からなるレジスト塗布膜を形成する工程を有するマスクブランクの製造方法であって、前記レジスト塗布膜を形成する工程において前記基板が回転している間、前記基板の上面に沿って基板の中央側から外周方向に気流を発生させ、基板の回転により基板周縁部に形成されるレジスト液の液溜まりが、基板中央方向へ移動するのを抑制することを特徴とするマスクブランクの製造方法。

IPC (2件)：

G03F1/08 , H01L21/027

FI (2件)：

G03F1/08 D , H01L21/30 564D

Fターム (10件)：

2H095BB02 , 2H095BB18 , 2H095BB27 , 2H095BC01 , 5F046JA01 , 5F046JA07 , 5F046JA13 , 5F046JA15 , 5F046JA21 , 5F046JA22

引用特許：

出願人引用 (1件)

特公平4-29215号公報

審査官引用 (12件)

特開平2-144169
特開昭63-229169
ポジ型感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-224104 出願人：富士フイルムアーチ株式会社

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