特許

J-GLOBAL ID：200903031517634822

結晶化金属酸化物薄膜を備えた蛍光体

発明者： 土屋 哲男 ,  中島 智彦 ,  渡邊 昭雄 ,  熊谷 俊弥
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
代理人 (1件)： 小越 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-328292
公開番号（公開出願番号）：特開2009-132932
出願日： 2008年12月24日
公開日（公表日）： 2009年06月18日
要約：

【課題】ガラスやシリコン基板上に結晶化したY2O3を含む薄膜形成を可能にし、性能が高い蛍光体薄膜材料の製造方法を提供する。【解決手段】 基板上に形成されたY、Dy, Sm, Gd, Ho, Eu, Tm, Tb, Er, Ce Pr, Yb, La, Nd, Luからなる群れより選ばれる少なくとも一種類の希土類金属元素を含む有機金属薄膜または金属酸化物膜を、250〜600°Cの温度に保持し、波長200nm以下の紫外光を照射しつつ、結晶化を行うことを特徴とする結晶化金属酸化物薄膜の製造方法。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

基板上に形成された Y、Dy, Sm, Gd, Ho, Eu, Tm, Tb, Er, Ce Pr, Yb, La, Nd, Luからなる群れより選ばれる少なくとも一種類の希土類金属元素を含む有機金属薄膜または金属酸化物膜を、25〜600°Cの温度に保持し、波長200nm以下の紫外光を照射しつつ、結晶化を行うことを特徴とする結晶化金属酸化物薄膜の製造方法。

IPC (6件)：

C09K 11/00 ,  C01F 17/00 ,  C09K 11/08 ,  C09K 11/78 ,  H01L 21/824 ,  H01L 27/108

FI (5件)：

C09K11/00 A ,  C01F17/00 B ,  C09K11/08 A ,  C09K11/78 ,  H01L27/10 651

Fターム (32件)：

4G076AA02 ,  4G076AA24 ,  4G076AB11 ,  4G076BA11 ,  4G076BA42 ,  4G076BA50 ,  4G076BC08 ,  4G076BD02 ,  4G076BG04 ,  4G076CA10 ,  4G076DA30 ,  4H001CA04 ,  4H001CA06 ,  4H001XA08 ,  4H001XA39 ,  4H001XA58 ,  4H001XA59 ,  4H001XA60 ,  4H001XA62 ,  4H001XA63 ,  4H001XA64 ,  4H001XA65 ,  4H001XA66 ,  4H001XA67 ,  4H001XA68 ,  4H001XA69 ,  4H001XA70 ,  4H001XA71 ,  4H001YA63 ,  5F083AD11 ,  5F083GA09 ,  5F083JA02

引用特許：

出願人引用 (7件)

• ナノ薄膜蛍光体及びその合成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-302962   出願人：株式会社アルバック
• 蛍光体の製造方法およびその蛍光体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-032941   出願人：科学技術振興事業団
• 特許公開2005-150416号公報
  
• 半導体基板とその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-324275   出願人：旭化成工業株式会社
• 特許2759125号明細書
  
• 金属酸化物の製造方法及び微細パターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-308644   出願人：工業技術院長
• 複合酸化物膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-063295   出願人：株式会社関西新技術研究所

審査官引用 (4件)

• 薄膜蛍光体基板及びその作製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-316476   出願人：株式会社アルバック
• 蛍光体薄膜およびその製造方法ならびにELパネル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-326736   出願人：TDK株式会社, 三浦登
• ナノ薄膜蛍光体及びその合成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-302962   出願人：株式会社アルバック
• 発光材料及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-253253   出願人：キヤノン株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 自己組織膜テンプレート上へのイットリア薄膜のマイクロパターニング