特許
J-GLOBAL ID：200903031792040304
マイクロレンズアレーの製造方法、それに用いる電解液およびマイクロレンズアレー樹脂材料、ならびに原盤製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-186057
公開番号（公開出願番号）：特開2004-025656
出願日： 2002年06月26日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：
【課題】簡便な方法により、低コストで製造することができ、かつレンズの集積度を自由に調節することができる、マイクロレンズアレー(MA)の製造方法、そのための電解液およびおよびMA樹脂材料、ならびに原盤製造装置を提供すること。【解決手段】▲1▼1)絶縁性基板に導電性薄膜と光半導体薄膜をもつMA原盤作製基板を用い、光電着法または光触媒法によりMA原盤を作製する工程、2)原盤表面に鋳型樹脂材料の層を形成した後剥離して鋳型を作製する工程、3)鋳型に屈折率を制御したMA樹脂材料の層を形成した後鋳型を剥離する工程を有するMAの製造方法、▲2▼疎水性基と親水性基を有し、疎水基の数が、親水基と疎水基の総数の30%から80%の範囲にある高分子材料を含むMA原盤作製に用いる電解液、▲3▼前記高分子材料を含むMA樹脂材料、および▲4▼MA原盤作製に用いる光電着装置。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
1)pHが変化することにより水性液体に対する溶解性ないし分散性が低下する膜形成材料を含む水系の電解液に、絶縁性基板に導電性薄膜と光半導体薄膜がこの順に積層して設けられたマイクロレンズアレー原盤作製基板を、前記光半導体薄膜が電解液に接触するように配置した状態で、前記光半導体薄膜の選択領域に光を照射することにより、選択領域の光半導体薄膜と対向電極の間に電圧を印加し、前記光半導体薄膜の選択領域に前記材料を析出させてマイクロレンズアレー原盤を作製する工程、2)前記原盤表面に鋳型樹脂材料の層を形成した後剥離して鋳型を作製する工程、3)前記鋳型に屈折率を制御したマイクロレンズアレー樹脂材料の層を形成した後鋳型を剥離する工程を有する、マイクロレンズアレーの製造方法。
IPC (6件)：
B29C33/38
, B29C39/02
, B29D11/00
, C23C18/14
, C25D9/02
, G02B3/00
B29C33/38
, B29C39/02
, B29D11/00
, C23C18/14
, C25D9/02
, G02B3/00 A
4F202AH73
, 4F202AJ02
, 4F202AJ09
, 4F202CA01
, 4F202CB01
, 4F202CD02
, 4F202CD12
, 4F202CD21
, 4F202CK11
, 4F204AA13E
, 4F204AA21E
, 4F204AA36
, 4F204AB16
, 4F204AH74
, 4F204EA03
, 4F204EA04
, 4F204EB01
, 4F204EF01
, 4F204EF02
, 4F204EK13
, 4F213AA44
, 4F213AH75
, 4F213WA02
, 4F213WA32
, 4F213WA39
, 4F213WA52
, 4F213WA56
, 4F213WA86
, 4F213WA87
, 4F213WB01
, 4F213WC02
, 4F213WE02
, 4F213WE21
, 4F213WE25
, 4F213WF01
, 4F213WF27
, 4F213WW01
, 4F213WW33
, 4F213WW34
, 4K022AA05
, 4K022AA41
, 4K022BA38
, 4K022DA09
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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