特許
J-GLOBAL ID：200903031807616585

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
荒木 浩之

荒木 浩之 について

, 
原 孝志

原 孝志 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (2件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-110684
公開番号（公開出願番号）：特開2004-319708
出願日： 2003年04月15日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：
【課題】基板表面の異物の状況に応じた洗浄処理を行うことによって、高品位な基板洗浄処理を実現できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】バッチ洗浄処理部1で複数枚の基板を一括洗浄した後、個々の基板について、異物測定部2において、異物情報が測定される。この測定結果は、記憶装置5に格納される。制御装置4は、異物情報の測定結果に基づいて、所定の合格基準を満たさない基板は、基板搬送機構によって、枚葉洗浄処理部3に搬入させる。それとともに、異物情報の測定結果に基づいて、適切な洗浄工程を設定する。枚葉洗浄処理の後には、再び、基板の異物情報が測定され、合格基準を満たさなければ、その基板には、再度、枚葉洗浄処理部3による処理が行われる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上の異物の情報を測定する異物情報測定手段と、 この異物情報測定手段によって測定された異物の情報を記憶する異物情報記憶手段と、 この異物情報記憶手段に記憶された異物の情報に基づいて、当該異物の情報に対応した基板洗浄工程を設定する基板洗浄工程設定手段と、 この基板洗浄工程設定手段によって設定された基板洗浄工程に従って、基板を洗浄する基板洗浄手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L21/304 ,  B08B3/02 ,  B08B3/04
FI (5件)：
H01L21/304 648G ,  H01L21/304 642A ,  H01L21/304 643A ,  B08B3/02 B ,  B08B3/04 Z
Fターム (15件)：
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB03 ,  3B201AB34 ,  3B201BB02 ,  3B201BB22 ,  3B201BB82 ,  3B201BB83 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201BB99 ,  3B201CB11 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • マスク洗浄機
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-045120   出願人：山形日本電気株式会社
  • 基板の洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-128247   出願人：株式会社ニコン
  • 基板洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-117810   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM