特許
J-GLOBAL ID:200903032004993262
透明導電膜積層体及びその形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-156374
公開番号(公開出願番号):特開2004-063453
出願日: 2003年06月02日
公開日(公表日): 2004年02月26日
要約:
【課題】所望の電気特性、水蒸気バリヤ性を有する透明導電膜積層体とその形成方法を提供する。【解決手段】基材上に酸素原子と窒素原子のうち少なくともいずれか一方と、金属原子とを含んで構成される金属化合物層を有し、かつ透明導電層を有する透明導電膜積層体の、前記金属化合物層あるいは透明導電層のうち、少なくとも1層を形成する方法として、少なくとも1種類以上の不活性ガスと、少なくとも1種類以上の反応性ガスからなる混合ガスを放電空間に導入してプラズマ状態とし、基材を前記プラズマ状態の反応性ガスに晒すことによって、前記基材上に薄膜を形成することを特徴とする透明導電膜積層体の形成方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
基材上に酸素原子と窒素原子のうち少なくともいずれか一方と、金属原子とを含んで構成される金属化合物層を有し、かつ透明導電層を有する透明導電膜積層体の、前記金属化合物層あるいは透明導電層のうち、少なくとも1層を形成する方法として、大気圧または大気圧近傍の圧力下において、少なくとも1種類以上の不活性ガスと、少なくとも1種類以上の反応性ガスからなる混合ガスを放電空間に導入してプラズマ状態とし、基材を前記プラズマ状態の反応性ガスに晒すことによって、前記基材上に薄膜を形成することを特徴とする透明導電膜積層体の形成方法。
IPC (5件):
H01B13/00
, B32B7/02
, C23C16/30
, C23C16/505
, H01B5/14
FI (5件):
H01B13/00 B
, B32B7/02 104
, C23C16/30
, C23C16/505
, H01B5/14 A
Fターム (40件):
4F100AA12B
, 4F100AA17B
, 4F100AA20B
, 4F100AA33C
, 4F100AH08B
, 4F100AK54J
, 4F100AK55J
, 4F100AT00A
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100EJ61
, 4F100GB41
, 4F100JA12C
, 4F100JD04
, 4F100JG01C
, 4F100JN01C
, 4K030AA06
, 4K030AA11
, 4K030AA14
, 4K030AA16
, 4K030AA17
, 4K030BA40
, 4K030BA42
, 4K030BA45
, 4K030BA47
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030DA09
, 4K030FA01
, 4K030GA14
, 4K030JA10
, 4K030JA16
, 4K030JA18
, 4K030KA15
, 4K030LA18
, 5G307FA02
, 5G307FB01
, 5G307FB04
引用特許:
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