研磨液組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：細田芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-376456
公開番号（公開出願番号）：特開2004-204118
出願日： 2002年12月26日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：

【課題】被研磨基板のうねり及び/又はノジュールを低減し得る研磨液組成物、該研磨液組成物を用いた被研磨基板のうねり及び/又はノジュール低減方法、並びに前記研磨液組成物を用いた基板の製造方法を提供すること。【解決手段】水、研磨材、有機酸またはその塩および界面活性剤を含有する研磨液組成物であって、有機酸がOH基またはSH基を有する総炭素数2〜15の多価カルボン酸であり、かつ、界面活性剤が分子中に2個以上のイオン性親水基を持ち、分子量が300 以上である研磨液組成物、研磨工程において前記研磨液組成物を用いて、被研磨基板のうねり及び/又はノジュールを低減する方法、前記研磨液組成物を用いて、被研磨基板を研磨する工程を有する基板の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

水、研磨材、有機酸またはその塩および界面活性剤を含有する研磨液組成物であって、有機酸がOH基またはSH基を有する総炭素数2〜15の多価カルボン酸であり、かつ、界面活性剤が分子中に2個以上のイオン性親水基を持ち、分子量が300 以上である研磨液組成物。

IPC (3件)：

C09K3/14 , B24B37/00 , G11B5/84

FI (4件)：

C09K3/14 550Z , C09K3/14 550D , B24B37/00 H , G11B5/84 A

Fターム (5件)：

3C058AA07 , 3C058CB01 , 3C058DA02 , 3C058DA17 , 5D112GA14

引用特許：

審査官引用 (11件)

研磨液組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-384456 出願人：花王株式会社
研磨液組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-128919 出願人：花王株式会社
金属用研磨液及び基板の研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-255585 出願人：日立化成工業株式会社

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