特許
J-GLOBAL ID:200903032885202815
表示装置
発明者:
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,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-297316
公開番号(公開出願番号):特開2006-140140
出願日: 2005年10月12日
公開日(公表日): 2006年06月01日
要約:
【課題】高画質で信頼性の高い表示装置を低いコストで歩留まり良く製造することができる技術を提供することを目的とする。【解決手段】画素領域における画素電極層上にスペーサを有する、また、画素電極層周辺を覆う隔壁として機能する絶縁層表面は、絶縁層下の積層物を反映して画素電極表面からの高さが高く形成される。これらのスペーサ、及びスペーサとして機能する絶縁物によって、発光材料を画素電極層上に形成する際、選択的に形成するためのマスクは支持され、マスクのよじれやたわみなどによって画素電極層に接することを防止する。よって、画素電極層にはマスクによる傷などの損傷が生じず、画素電極層は形状不良とならないので、高繊細な表示を行う、高信頼性な表示装置を作製することができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ゲート電極層を有し、
前記ゲート電極層上に絶縁層を有し、
前記絶縁層上にソース電極層又はドレイン電極層を有し、
前記絶縁層上に、前記ソース電極層又はドレイン電極層に接して第1の電極層を有し、
前記ゲート電極層、前記絶縁層、前記ソース電極層又はドレイン電極層、及び前記第1の電極層の一部を覆う絶縁物を有し、
前記第1の電極層上に電界発光層を有し、
前記電界発光層上に第2の電極層を有し、
前記絶縁物は凸部を有し、
前記凸部は、前記ゲート電極層及び前記ソース電極層又はドレイン電極層上に有することを特徴とする表示装置。
IPC (6件):
H05B 33/10
, G09F 9/30
, H01L 29/786
, H01L 21/336
, H01L 27/32
, H01L 51/50
FI (7件):
H05B33/10
, G09F9/30 349Z
, G09F9/30 338
, H01L29/78 619A
, H01L29/78 612D
, G09F9/30 365Z
, H05B33/14 A
Fターム (112件):
3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007FA00
, 3K007FA01
, 3K007GA00
, 5C094AA42
, 5C094AA48
, 5C094BA27
, 5C094DA13
, 5C094EC10
, 5C094FA02
, 5C094HA08
, 5F110AA16
, 5F110BB02
, 5F110BB03
, 5F110BB04
, 5F110BB06
, 5F110BB08
, 5F110CC02
, 5F110CC07
, 5F110DD01
, 5F110DD02
, 5F110DD03
, 5F110DD05
, 5F110DD13
, 5F110DD14
, 5F110DD15
, 5F110DD17
, 5F110EE01
, 5F110EE02
, 5F110EE03
, 5F110EE04
, 5F110EE06
, 5F110EE07
, 5F110EE09
, 5F110EE14
, 5F110EE23
, 5F110EE28
, 5F110EE30
, 5F110EE32
, 5F110EE42
, 5F110EE43
, 5F110EE44
, 5F110EE45
, 5F110FF02
, 5F110FF03
, 5F110FF04
, 5F110FF09
, 5F110FF10
, 5F110FF23
, 5F110FF28
, 5F110FF30
, 5F110GG02
, 5F110GG03
, 5F110GG05
, 5F110GG12
, 5F110GG13
, 5F110GG14
, 5F110GG16
, 5F110GG17
, 5F110GG25
, 5F110GG32
, 5F110GG42
, 5F110GG43
, 5F110GG44
, 5F110GG45
, 5F110GG47
, 5F110HJ01
, 5F110HJ04
, 5F110HJ23
, 5F110HL02
, 5F110HL03
, 5F110HL04
, 5F110HL06
, 5F110HL07
, 5F110HL11
, 5F110HL12
, 5F110HL22
, 5F110HL23
, 5F110HL24
, 5F110HM15
, 5F110NN03
, 5F110NN04
, 5F110NN22
, 5F110NN23
, 5F110NN24
, 5F110NN27
, 5F110NN33
, 5F110NN34
, 5F110NN35
, 5F110NN36
, 5F110NN71
, 5F110PP01
, 5F110PP02
, 5F110PP03
, 5F110PP04
, 5F110PP05
, 5F110PP06
, 5F110PP10
, 5F110PP11
, 5F110PP13
, 5F110PP29
, 5F110PP34
, 5F110PP35
, 5F110QQ04
, 5F110QQ06
, 5F110QQ09
, 5F110QQ11
, 5F110QQ19
, 5F110QQ23
, 5F110QQ28
引用特許:
出願人引用 (13件)
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蒸着マスク
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-301293
出願人:北陸電気工業株式会社
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表示装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-329810
出願人:ソニー株式会社
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TFT-EL画素製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-323197
出願人:イーストマンコダックカンパニー
-
有機エレクトロルミネッセンス素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-143033
出願人:三洋電機株式会社
-
発光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-121821
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
-
電気光学装置、及び電子機器
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-073097
出願人:セイコーエプソン株式会社
-
有機ELパネルの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-023143
出願人:日本精機株式会社
-
発光装置およびその作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-137169
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
-
表示素子及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-248834
出願人:ソニー株式会社
-
電気光学装置及び電子機器
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-146433
出願人:セイコーエプソン株式会社
-
有機電界発光パネル
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-331412
出願人:三洋電機株式会社
-
薄膜パターニング用基板
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-076979
出願人:セイコーエプソン株式会社
-
有機ELディスプレイ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-327827
出願人:ティーディーケイ株式会社, 株式会社半導体エネルギー研究所
全件表示
審査官引用 (12件)
-
表示装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-329810
出願人:ソニー株式会社
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表示素子及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-248834
出願人:ソニー株式会社
-
薄膜パターニング用基板
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-076979
出願人:セイコーエプソン株式会社
-
TFT-EL画素製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-323197
出願人:イーストマンコダックカンパニー
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有機エレクトロルミネッセンス素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-143033
出願人:三洋電機株式会社
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有機ELディスプレイ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-327827
出願人:ティーディーケイ株式会社, 株式会社半導体エネルギー研究所
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発光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-121821
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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有機ELパネルの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-023143
出願人:日本精機株式会社
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電気光学装置、及び電子機器
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-073097
出願人:セイコーエプソン株式会社
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発光装置およびその作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-137169
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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電気光学装置及び電子機器
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-146433
出願人:セイコーエプソン株式会社
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有機電界発光パネル
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-331412
出願人:三洋電機株式会社
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