シリンドリカルマイクロレンズアレイ

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：細江利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-151399
公開番号（公開出願番号）：特開2005-331804
出願日： 2004年05月21日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：

【課題】 2次元方向の位置合わせに使用することが可能な位置合わせ用マークを持ったシリンドリカルマイクロレンズアレイを提供する。【解決手段】複数のグレースケールマスクを使用することにより、精度良く形成された高サグ量のシリンドリカルマイクロレンズパターンを有する基板1の表面にレジスト2を塗布する(f)。そして、アライメントマークのパターン5aが形成されたマスク5を通してレジスト2を感光させ(g)、レジスト2を現像することにより、アライメントマークに対応する部分2aのレジスト2を除去する(h)。そして、その上にスパッタリングによりクロム薄膜6を成膜する(i)。続いて、レジスト2を溶解すると、レジスト2上のクロム薄膜6は除去され、レジスト2が存在しなかった部分に、クロム薄膜からなるアライメントマーク7が形成される(j)。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

2枚以上のグレースケールマスクを用いて、順次グレースケールマスクパターンを光学基材上に設けたレジストに転写し、前記レジストを現像した後、残存する前記レジストと前記光学基材をエッチングすることにより、前記グレースケールマスクに対応する前記レジストのパターンを前記光学基材に転写してマイクロレンズを製造する工程を有するマイクロレンズの製造方法であり、前記各グレースケールマスクを用いて露光する露光時間のうち、少なくとも一つのグレースケールマスクにおいて、それを用いて露光する露光時間が、他のグレースケールマスクを用いて露光する露光時間と異なっているマイクロレンズの製造方法によって製造されたシリンドリカルマイクロレンズアレイであって、前記光学基材のレンズ形状が形成された箇所以外の平坦部分に、2次元方向の位置の基準として用いることが可能なアライメントマークが形成されたシリンドリカルマイクロレンズアレイ。

IPC (3件)：

G02B3/00 , G02B3/06 , G03F7/20

FI (4件)：

G02B3/00 A , G02B3/00 Z , G02B3/06 , G03F7/20 501

Fターム (4件)：

2H097AA06 , 2H097BB01 , 2H097BB10 , 2H097LA17

引用特許：

出願人引用 (2件)

オンチップレンズの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-158845 出願人：ソニー株式会社
マイクロレンズの製造方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願平6-513119 出願人：ロッキードミサイルズアンドスペースカンパニーインコーポレイテッド

審査官引用 (6件)

光学素子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-158480 出願人：富士通株式会社
微小光学素子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-330105 出願人：富士通株式会社
光学素子の作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-000214 出願人：富士通株式会社

全件表示

前のページに戻る