特許
J-GLOBAL ID:200903034044830733
塗布装置及び塗布方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松浦 憲三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-138839
公開番号(公開出願番号):特開2005-319385
出願日: 2004年05月07日
公開日(公表日): 2005年11月17日
要約:
【課題】設置に多額の費用を要せず、設計上及びレイアウト上の制約が少なく、膜の厚さ精度が高く、かつ、表面が平滑で塗布ムラのない塗布膜を得ることができる塗布装置及び塗布方法を提供する。【解決手段】塗布液供給手段18より塗布液を供給しながら、塗布液供給手段と所定の間隔を隔てた位置で連続的に搬送される帯状支持体16に所定膜厚の塗布膜28を形成する塗布手段10を備える塗布装置。塗布手段10を防爆仕様の能動除振装置32、32...上に固定する。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
塗布液供給手段より塗布液を供給しながら、該塗布液供給手段と所定の間隔を隔てた位置で連続的に搬送される帯状支持体に所定膜厚の塗布膜を形成する塗布手段を備える塗布装置において、
前記塗布手段が能動除振装置上に固定されていることを特徴とする塗布装置。
IPC (4件):
B05C9/08
, B05C5/02
, B05D1/26
, F16F15/02
FI (4件):
B05C9/08
, B05C5/02
, B05D1/26 Z
, F16F15/02 A
Fターム (34件):
3J048AA06
, 3J048AB08
, 3J048AB11
, 3J048AB12
, 3J048AD03
, 3J048BE02
, 3J048CB21
, 3J048EA07
, 4D075AC05
, 4D075AC72
, 4D075AC80
, 4D075AC86
, 4D075AC91
, 4D075CA48
, 4D075DA04
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075DB14
, 4D075DB18
, 4D075DB33
, 4D075DB36
, 4D075DB38
, 4D075DB48
, 4D075DB53
, 4D075DC24
, 4D075DC27
, 4D075DC28
, 4D075EA07
, 4F041AA12
, 4F041AB01
, 4F041CA02
, 4F042AA22
, 4F042AB00
, 4F042BA27
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
塗布装置及び塗布方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-038550
出願人:スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
-
連続塗布装置及び連続塗布方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-016719
出願人:コニカ株式会社
審査官引用 (7件)
-
嫌振室の防振方法及び防振構造
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-035727
出願人:富士写真フイルム株式会社
-
連続塗布装置及び連続塗布方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-016721
出願人:コニカ株式会社
-
ペースト塗布機
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-193380
出願人:株式会社日立インダストリイズ
-
露光装置ならびにデバイス製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-184045
出願人:キヤノン株式会社
-
制振装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-024209
出願人:トキコ株式会社
-
塗布装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-216414
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
連続塗布装置及び連続塗布方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-016719
出願人:コニカ株式会社
全件表示
前のページに戻る