特許
J-GLOBAL ID:200903034618732140
画像形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-162384
公開番号(公開出願番号):特開2004-012564
出願日: 2002年06月04日
公開日(公表日): 2004年01月15日
要約:
【課題】一画素中において、部分的に着色層の膜厚を変化させた、反射・透過両用LCDに好適に用いられる画像の簡便な形成方法を提供すること、およびスペーサと配向制御用突起の簡便な形成方法を提供する。【解決手段】第1のネガ型感光性樹脂層及び第2のネガ型感光性樹脂層が設けられた基体に、フォトマスクを介して露光、現像する工程において、前記フォトマスクが少なくとも2種類の光透過性パターンを有するものであり、且つ前記第1のネガ型感光性樹脂層と第2のネガ型感光性樹脂層との光感度比(第1/第2)が1より大きい画像の形成方法であって、第1のネガ型感光性樹脂層と第2のネガ型感光性樹脂層との間に、バリヤ層を設けることを特徴とする画像形成方法である。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
基体上に、第1のネガ型感光性樹脂層を設ける工程Aと、
前記第1のネガ型感光性樹脂層の層上に、さらに第2のネガ型感光性樹脂層を設ける工程Bと、
前記第1のネガ型感光性樹脂層及び第2のネガ型感光性樹脂層が設けられた基体に、フォトマスクを介して露光する工程Cと、
前記露光後の第1及び第2のネガ型感光性樹脂層を現像する工程Dを有し、
前記フォトマスクを介して露光する工程Cが、少なくとも2種類の光透過性パターンを有するフォトマスクを介して露光するものであり、
且つ、前記第1のネガ型感光性樹脂層と第2のネガ型感光性樹脂層との光感度比(第1/第2)が1より大きい画像形成方法であって、
前記工程Aと、前記工程Bとの間に、バリヤ層を設ける工程Eを有することを特徴とする画像形成方法。
IPC (4件):
G03F7/11
, G02B5/20
, G03F7/095
, G03F7/26
FI (4件):
G03F7/11
, G02B5/20 101
, G03F7/095
, G03F7/26 501
Fターム (31件):
2H025AB11
, 2H025AB13
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC14
, 2H025BC32
, 2H025BC42
, 2H025CA01
, 2H025CB13
, 2H025CB14
, 2H025CB43
, 2H025DA13
, 2H025DA14
, 2H025FA03
, 2H025FA17
, 2H048BA02
, 2H048BA45
, 2H048BA64
, 2H048BB02
, 2H048BB06
, 2H048BB08
, 2H048BB42
, 2H096AA28
, 2H096BA05
, 2H096BA20
, 2H096EA02
, 2H096GA08
, 2H096KA04
, 2H096KA05
, 2H096KA08
, 2H096LA17
引用特許:
審査官引用 (12件)
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特開平4-301846
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半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-080817
出願人:株式会社日立製作所
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半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-010668
出願人:株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
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