特許
J-GLOBAL ID：200903034952172821
スパッタリング用マルチターゲット装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北條 和由
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-053385
公開番号（公開出願番号）：特開2002-256425
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：
【要約】【課題】 真空チャンバ12内で複数のターゲット9を効率よく短時間に替えて順次スパッタリングする。【解決手段】 スパッタリング用マルチターゲット装置は、真空チャンバ12内で水平に回転可能に支持され、この回転中心から一定の距離の円周上にターゲット9より僅かに小さな径のリフト通過孔14が穿孔されたターンテーブル1と、このターンテーブル1の上に配置され、そのターンテーブル1のリフト通過孔14が停止する位置の真上のスパッタ位置にターゲット9を保持するターゲット保持部10を有するターゲット支持板2と、前記ターンテーブル1のリフト通過孔14がターゲット保持部10の真下で停止したとき、このリフト通過孔14の下から上昇し、そこに配置したターゲット9を持ち上げてターゲット支持板2のターゲット保持部10まで上昇させるリフト11とを有する。
請求項（抜粋）：
真空チャンバ(12)内のスパッタリング位置にスパッタリング用の複数のターゲット(9)を順次供給するスパッタリング用マルチターゲット装置において、真空チャンバ(12)内で水平に回転可能に支持され、その回転中心から一定の距離の円周上にターゲット(9)より僅かに小さな径のリフト通過孔(14)が穿孔されたターンテーブル(1)と、このターンテーブル(1)の上に配置され、そのターンテーブル(1)のリフト通過孔(14)が停止する位置の真上のスパッタ位置にターゲット(9)を保持するターゲット保持部(10)を有するターゲット支持板(2)と、前記ターンテーブル(1)のリフト通過孔(14)がターゲット保持部(10)の真下で停止したとき、このリフト通過孔(14)の下から上昇し、そこに配置したターゲット(9)を持ち上げてターゲット支持板(2)のターゲット保持部(10)まで上昇させるリフト(11)とを有することを特徴とするスパッタリング用マルチターゲット装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/34 C
, H01L 21/203 S
4K029AA06
, 4K029BB02
, 4K029BD01
, 4K029CA05
, 4K029DC16
, 5F103AA08
, 5F103BB08
, 5F103RR01
, 5F103RR04
, 5F103RR06
