特許
J-GLOBAL ID:200903035210581123

パターン形成方法、有機電界効果型トランジスタの製造方法、及び、フレキシブルプリント回路板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 孝久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-083456
公開番号(公開出願番号):特開2006-269599
出願日: 2005年03月23日
公開日(公表日): 2006年10月05日
要約:
【課題】本来、塗布液が存在してはならない領域にまで、重力の影響によって、塗布液が存在したり、塗布液が溜まる結果、所望のパターンを得ることが困難となるといった問題点を確実に解決することができるパターン形成方法を提供する。【解決手段】塗布液を塗布するためのノズル12を基体30の下方に配置し、濡れ性が制御された基体30の面を下側に向けた状態で、ノズル12と基体30とを相対的に移動させることで、基体30の所望の領域に塗布液21を着液させた後、塗布液21を乾燥させ、以て、塗布液乾燥層から成るパターンを得る。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
塗布液を塗布するためのノズルを基体の下方に配置し、濡れ性が制御された基体の面を下側に向けた状態で、ノズルと基体とを相対的に移動させることで、基体の所望の領域に塗布液を着液させた後、塗布液を乾燥させ、以て、塗布液乾燥層から成るパターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。
IPC (5件):
H05K 3/10 ,  H01L 21/027 ,  H01L 51/05 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336
FI (5件):
H05K3/10 D ,  H01L21/30 502D ,  H01L29/28 ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 618A
Fターム (67件):
5E343AA02 ,  5E343AA12 ,  5E343AA26 ,  5E343AA33 ,  5E343AA34 ,  5E343BB06 ,  5E343BB23 ,  5E343BB72 ,  5E343DD12 ,  5E343DD16 ,  5E343EE31 ,  5E343EE36 ,  5E343FF05 ,  5E343GG08 ,  5F046AA28 ,  5F110AA16 ,  5F110AA26 ,  5F110BB01 ,  5F110CC01 ,  5F110CC03 ,  5F110CC05 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110DD05 ,  5F110DD13 ,  5F110EE01 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE06 ,  5F110EE07 ,  5F110EE09 ,  5F110EE14 ,  5F110EE42 ,  5F110EE43 ,  5F110EE44 ,  5F110EE45 ,  5F110FF01 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF04 ,  5F110FF22 ,  5F110FF23 ,  5F110FF24 ,  5F110FF26 ,  5F110FF27 ,  5F110FF28 ,  5F110FF29 ,  5F110GG05 ,  5F110GG42 ,  5F110HK01 ,  5F110HK02 ,  5F110HK03 ,  5F110HK04 ,  5F110HK06 ,  5F110HK07 ,  5F110HK09 ,  5F110HK14 ,  5F110HK16 ,  5F110HK21 ,  5F110HK32 ,  5F110HK33 ,  5F110HK34 ,  5F110QQ06 ,  5F110QQ14
引用特許:
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る