特許

J-GLOBAL ID：200903036369353063

基板処理装置及び基板処理方法

発明者： 上田 一成 ,  林 伸一 ,  飯田 成昭 ,  松山 雄二 ,  出口 洋一 ,  松永 正隆 ,  宮田 亮
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 大森 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-077548
公開番号（公開出願番号）：特開2002-164410
出願日： 2001年03月19日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：

【要約】【課題】 基板の冷却処理に要する時間がスループットの低下に与える影響を極力減らすことができる基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。【解決手段】 第1の主ウエハ搬送部A1及び第2の主ウエハ搬送部A2の周囲に10段の各熱処理ユニット部G3〜G5、5段の各塗布処理ユニット部G1及びG2を配置し、該熱処理ユニット部G3〜G5においては温調・搬送装置CによりウエハWを温調しながらウエハWの搬送を行うことにより、基板の冷却処理に要する時間がスループットの低下に与える影響を極力減らすことができる。

請求項（抜粋）：

基板を搬送するための主搬送部と、基板に熱的処理を施すための処理部と、基板を所定の温度に調整し、かつ前記主搬送部と前記処理部との間で基板を搬送するための温調・搬送部とを具備することを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/68 ,  B65G 49/00 ,  B65G 49/06 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

H01L 21/68 A ,  B65G 49/00 A ,  B65G 49/06 Z ,  B65G 49/07 C ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 562

Fターム (30件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA37 ,  5F031GA44 ,  5F031GA49 ,  5F031GA50 ,  5F031HA33 ,  5F031LA07 ,  5F031LA13 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA06 ,  5F031MA09 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA33 ,  5F031NA03 ,  5F031NA09 ,  5F031NA16 ,  5F031PA30 ,  5F046AA28 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046CD10 ,  5F046KA04

引用特許：

審査官引用 (8件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-220227   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板処理方法および基板搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-286288   出願人：株式会社日立製作所
• 基板処理装置および基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-303488   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-312658   出願人：東京エレクトロン株式会社
• ウェーハ表面検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-154672   出願人：ソニー株式会社
• 半導体ウェハ搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-190689   出願人：株式会社ニデック
• 電動ステージ付き顕微鏡
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-242112   出願人：株式会社ニコン
• 基板搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-339332   出願人：オリンパス光学工業株式会社