特許
J-GLOBAL ID：200903036687168526
全反射減衰を利用した測定方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-030445
公開番号（公開出願番号）：特開2002-048707
出願日： 2001年02月07日
公開日（公表日）： 2002年02月15日
要約：
【要約】【課題】 光ビームを収束光状態で誘電体ブロックに入射させる構成を有する全反射減衰を利用した測定装置において、測定値に大きなバラツキが生じることを防止する。【解決手段】 誘電体ブロック11と、この誘電体ブロック11の一面に形成されて試料15に接触させられる金属膜12と、光ビーム30を発生させる光源31と、光ビーム30を誘電体ブロック11に対して、該誘電体ブロック11と金属膜12との界面11aで全反射条件となり、かつ、種々の入射角成分を含むように収束光状態で入射させる光学系32と、界面11aで全反射した光ビーム30の強度を測定して全反射減衰の状態を検出する光検出手段40とを備えてなる全反射減衰を利用した測定装置において、光ビーム30が界面11aで焦点を結ばないように光学系32を構成する。
請求項（抜粋）：
誘電体ブロックと、この誘電体ブロックの一面に形成されて試料に接触させられる薄膜層と、光ビームを発生させる光源と、前記光ビームを前記誘電体ブロックに対して、該誘電体ブロックと前記薄膜層との界面で全反射条件となり、かつ、種々の入射角成分を含むように収束光状態で入射させる光学系と、前記界面で全反射した光ビームの強度を測定して全反射減衰の状態を検出する光検出手段とを備えてなる全反射減衰を利用した測定装置において、前記光ビームが前記界面で焦点を結ばないように前記光学系が構成されたことを特徴とする全反射減衰を利用した測定装置。
IPC (3件)：
G01N 21/27
, G01N 21/01
, G01N 21/03
G01N 21/27 C
, G01N 21/01 B
, G01N 21/03 Z
2G057AA02
, 2G057AA08
, 2G057AB07
, 2G057AB09
, 2G057AC01
, 2G057BA01
, 2G057BB06
, 2G059AA05
, 2G059BB04
, 2G059DD12
, 2G059EE02
, 2G059EE05
, 2G059GG01
, 2G059GG04
, 2G059JJ11
, 2G059JJ19
, 2G059JJ20
, 2G059KK01
, 2G059KK04
