特許
J-GLOBAL ID:200903038038510684

光学系の検査装置および検査方法並びに該検査装置を備えた位置合わせ装置および投影露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山口 孝雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-242961
公開番号(公開出願番号):特開2000-077295
出願日: 1998年08月28日
公開日(公表日): 2000年03月14日
要約:
【要約】【課題】 光学系の様々な収差、焦点位置、光軸ズレなどを正確に且つ簡易に検査することのできる検査装置。【解決手段】 位相パターン(WM)に照明光を照射するための照明光学系(103〜108)と位相パターンの像を結像させるための結像光学系(107〜115)とを有する光学系を検査する。この光学系を介して形成された位相パターンの像を検出するための像検出手段(116、117)と、像検出手段において検出される位相パターンの像をデフォーカスさせるためのデフォーカス手段(122)とを備えている。像検出手段において各デフォーカス状態で検出された位相パターンのエッジに対応する像の非対称性の変化に基づいて、光学系のコマ収差、光学系における光束ケラレ、および位相パターンの形成面(W)の法線に対する照明光の主光線の傾きを検査する。
請求項(抜粋):
位相パターンに照明光を照射するための照明光学系と前記位相パターンからの光束を集光して前記位相パターンの像を結像させるための結像光学系とを有する光学系を検査する検査装置において、前記光学系を介して形成された前記位相パターンの像を検出するための像検出手段と、前記像検出手段において検出される前記位相パターンの像をデフォーカスさせるためのデフォーカス手段と、前記像検出手段において各デフォーカス状態で検出された前記位相パターンのエッジに対応する像の非対称性の変化に基づいて、前記光学系のコマ収差、前記光学系における光束ケラレ、および前記位相パターンの形成面の法線に対する前記照明光の主光線の傾きを検査するための検査手段とを備えていることを特徴とする検査装置。
IPC (7件):
H01L 21/027 ,  G01M 11/00 ,  G02B 13/24 ,  G02B 19/00 ,  G02B 27/52 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (9件):
H01L 21/30 526 A ,  G01M 11/00 T ,  G02B 13/24 ,  G02B 19/00 ,  G02B 27/52 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 502 V ,  H01L 21/30 516 A
Fターム (37件):
2G086EE12 ,  2G086HH01 ,  2G086HH06 ,  2H052AA03 ,  2H052AB14 ,  2H052AB17 ,  2H052AC02 ,  2H052AC07 ,  2H052AC31 ,  2H052AF06 ,  2H052BA02 ,  2H052BA09 ,  2H052BA12 ,  2H087KA09 ,  2H087KA21 ,  2H087QA02 ,  2H087QA06 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CC05 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DB08 ,  5F046DC10 ,  5F046DC12 ,  5F046EA07 ,  5F046EB01 ,  5F046EB02 ,  5F046EC03 ,  5F046FA03 ,  5F046FA07 ,  5F046FA10 ,  5F046FB06 ,  5F046FB09 ,  5F046FB13 ,  5F046FC04 ,  5F046FC05
引用特許:
審査官引用 (10件)
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