特許
J-GLOBAL ID：200903038310928170
化学機械研磨用水系分散体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 清路
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-231669
公開番号（公開出願番号）：特開2001-057351
出願日： 1999年08月18日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
要約：
【要約】【課題】 銅等の研磨において、被研磨面にスクラッチ等を生ずることなく、且つ十分な速度で研磨することができる化学機械研磨用水系分散体を提供する。【解決手段】 架橋構造を有し、その分子中に、陽イオンを形成し得る官能基を有する重合体、或いは共重合体からなる粒子と、水とを含有する水系分散体を得る。陽イオンを形成し得る官能基を有する重合体は、この特定の官能基を有するアゾ系の重合開始剤を使用し、メチルメタクリレート等を重合させることにより生成させることができる。また、ポリスチレン等の存在下、上記の重合開始剤を用いて、メチルメタクリレート等を重合させることにより生成させることもできる。更に、陽イオンを形成し得る官能基を有する共重合体は、3-アミノ-2-ヒドロキシプロピルメタクリレート等の特定の官能基を有する単量体を、メチルメタクリレート等と共重合させることにより生成させることができる。
請求項（抜粋）：
重合体粒子及び水を含有し、該重合体粒子は架橋構造を有する重合体により構成され、該重合体は、その分子中に、被研磨面を形成する金属と反応し得る官能基を有することを特徴とする化学機械研磨用水系分散体。
IPC (5件)：
H01L 21/304 622
, B24B 37/00
, C09K 3/14 550
, C09K 3/14
, C09K 13/00
H01L 21/304 622 D
, B24B 37/00 H
, C09K 3/14 550 J
, C09K 3/14 550 Z
, C09K 13/00
3C058AA07
, 3C058DA02
, 3C058DA12
