特許
J-GLOBAL ID：200903038954123769

パターン生成装置およびパターン形状評価装置

発明者：
豊田 康隆

豊田 康隆 について

, 
栄井 英雄

栄井 英雄 について

, 
松岡 良一

松岡 良一 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (2件)： 井上 学 ,  戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-031314
公開番号（公開出願番号）：特開2009-194051
出願日： 2008年02月13日
公開日（公表日）： 2009年08月27日
要約：
【課題】 設計データや良品パターンを参照パターンとして、電子デバイスのパターン形状を評価する方法があるが、設計データや良品パターンでは、電子デバイスの製造条件に適合した形状を正確に定義することが困難であり、パターンの形状を高精度に評価することができない。【解決手段】 電子デバイスの回路パターンの形状を評価する方法であって、少なくとも2つ以上の回路パターンの輪郭データから回路パターンの輪郭分布データを生成する手段と、前記輪郭分布データから、パターンの形状評価に用いる参照パターンを生成する手段と、前記参照パターンと評価対象パターンの比較によってパターンの形状を評価する手段を有することを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
電子デバイスの回路パターンの形状評価に利用する参照パターンを生成する装置であって、少なくとも2つ以上の回路パターンの輪郭データから回路パターンの輪郭分布データを生成する輪郭分布データ生成手段と、前記輪郭分布データから、パターン検査に用いる参照パターンを生成する参照パターン生成手段と、を有することを特徴としたパターン生成装置。
IPC (2件)：
H01L 21/66 ,  G01N 23/225
FI (2件)：
H01L21/66 J ,  G01N23/225
Fターム (20件)：
2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001GA12 ,  2G001HA13 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA11 ,  2G001QA01 ,  4M106AA01 ,  4M106AA09 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB02 ,  4M106DB05 ,  4M106DB18 ,  4M106DJ15 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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