特許
J-GLOBAL ID:200903038999017560

塗布、現像装置及び塗布、現像装置の制御方法並びに記憶媒体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 俊夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-113331
公開番号(公開出願番号):特開2007-287909
出願日: 2006年04月17日
公開日(公表日): 2007年11月01日
要約:
【課題】カセットステーションと処理ステーションとの間に検査ステーションが設けられた塗布、現像装置において、検査モジュールにて基板が無駄に滞在する時間を削減すること。【解決手段】検査ステーション40内の基板搬送手段4は、カセットステーション21と処理ステーションS1との間の基板の受け渡しを優先し、処理ステーションS1内の基板搬送手段26A,Bのサイクルタイム内の残り時間で検査モジュールE1に対して基板の受け渡しを行い、検査モジュールE1からの基板の搬出については、基板の追い越しを行える(処理の順番の大きい基板よりも処理の順番の小さい基板を搬出できる)ようにし、検査モジュールE1への基板の搬入については、基板の追い越しを禁止している。【選択図】図1
請求項(抜粋):
複数枚の基板を収納したカセットが載置され、カセットとの間で基板の受け渡しを行う受け渡し手段を備えたカセットステーションと、 カセットから取り出された基板に対するレジストの塗布、レジストが塗布されかつ露光された後の基板に対する現像、またはその前後の処理を行う複数の処理モジュールと、これら処理モジュールに対し、循環路に沿って順次基板を搬送すると共に循環路を1周するサイクルタイムが予め決められている第1の基板搬送手段と、を備えた処理ステーションと、 処理を終えた基板に対して検査を行い、検査に要する時間が互いに異なる複数の検査モジュールと、前記カセットステーションと処理ステーションとの間の基板の受け渡し、及び検査モジュールに対して基板の受け渡しを行う第2の基板搬送手段と、を備えた検査ステーションと、 前記第2の基板搬送手段を制御する制御部と、を備え、 前記制御部は、第2の基板搬送手段に対して、 a)前記カセットステーションから処理ステーションへの間の基板の受け渡し及び処理ステーションからの基板の受け取りを優先し、 b)基板に割り当てられた処理の順番の小さい基板から検査モジュールに対して搬入を行い、 c)基板に割り当てられた処理の順番に拘わらず、検査が終了している基板を検査モジュールから搬出する ように制御する機能を備えていることを特徴とする塗布、現像装置。
IPC (1件):
H01L 21/027
FI (2件):
H01L21/30 562 ,  H01L21/30 502J
Fターム (3件):
5F046AA18 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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