特許
J-GLOBAL ID：200903039364781694

反射防止膜及びその製造方法

発明者：
佐藤 一也

佐藤 一也 について

, 
松本 司

松本 司 について

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渡辺 裕

渡辺 裕 について

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六波羅 淳

六波羅 淳 について


出願人/特許権者：
ザ・インクテック株式会社

ザ・インクテック株式会社 について

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日本伸管株式会社

日本伸管株式会社 について


代理人 (1件)： 高橋 徳明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-138444
公開番号（公開出願番号）：特開2009-288337
出願日： 2008年05月27日
公開日（公表日）： 2009年12月10日
要約：
【課題】優れた光の反射防止性能や優れた光の透過性能を有する反射防止膜に要求される表面形状と物性を見出し、かかる特定の表面形状と物性を有する反射防止膜とその反射防止膜の製造方法を提供すること。【解決手段】アルミニウム材料の表面を、機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩により加工した後、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を有する型を作製し、この型を反射防止膜形成材料に転写させることによって得られ、その表面に平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在し、かつヘイズが15%以下であることを特徴とする反射防止膜。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
アルミニウム材料の表面を、機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩により加工した後、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を有する型を作製し、この型を反射防止膜形成材料に転写させることによって得られ、その表面に平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在し、かつヘイズが15%以下であることを特徴とする反射防止膜。
IPC (3件)：
G02B 1/11 ,  B29C 33/38 ,  B29C 59/02
FI (3件)：
G02B1/10 A ,  B29C33/38 ,  B29C59/02 B
Fターム (34件)：
2K009AA01 ,  2K009BB14 ,  2K009DD15 ,  4F202AA43 ,  4F202AF01 ,  4F202AG01 ,  4F202AG03 ,  4F202AG05 ,  4F202AH73 ,  4F202AJ02 ,  4F202AR07 ,  4F202AR11 ,  4F202AR13 ,  4F202AR16 ,  4F202CA19 ,  4F202CB02 ,  4F202CB29 ,  4F202CD24 ,  4F202CD25 ,  4F202CK11 ,  4F209AA21 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH73 ,  4F209AH75 ,  4F209AJ02 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05 ,  4F209PC06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11
引用特許：
出願人引用 (13件)
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