特許
J-GLOBAL ID：200903039412025821
研磨液及び研磨方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
三好 秀和
, 三好 保男
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 栗原 彰
, 川又 澄雄
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-181992
公開番号（公開出願番号）：特開2004-031443
出願日： 2002年06月21日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：
【課題】好ましい研磨速度を維持しつつ、エッチング速度を十分に低下させ、デッシングの発生や銅表面の荒れを抑制し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパターン形成を可能とする研磨液を提供する。【解決手段】酸化剤、酸化金属溶解剤、金属防食剤及び水を含有し、エッチング速度が25°Cで1.0nm/分以下である研磨液。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
酸化剤、酸化金属溶解剤、金属防食剤及び水を含有し、エッチング速度が25°Cで1.0nm/分以下である研磨液。
IPC (3件)：
H01L21/304
, B24B37/00
, C09K3/14
H01L21/304 622C
, H01L21/304 622B
, H01L21/304 622X
, B24B37/00 H
, C09K3/14 550D
, C09K3/14 550Z
3C058AA07
, 3C058AC04
, 3C058CB01
, 3C058DA17
