特許
J-GLOBAL ID：200903039814087882
原子力プラント構成部材への放射性核種の付着抑制方法及びフェライト皮膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-152989
公開番号（公開出願番号）：特開2008-304381
出願日： 2007年06月08日
公開日（公表日）： 2008年12月18日
要約：
【課題】放射性核種の付着をさらに抑制することができる原子力プラント構成部材への放射性核種の付着抑制方法を提供する。【解決手段】原子力プラントの構成部材、例えば、再循環系配管に皮膜形成装置を接続する(ステップS1)。皮膜形成装置は、Fe2+を含む薬剤を注入するFe2+注入装置、Zn2+を含む薬剤を注入するZn2+注入装置、過酸化水素を注入する酸化剤注入装置、及びヒドラジンを注入するpH調整剤注入装置を備えている。再循環系配管に接続された、皮膜形成装置の循環配管に、Fe2+、Zn2+、過酸化水素及びヒドラジンをそれぞれ注入する(ステップS4、S5,S6,S7)。Fe2+、Zn2+、過酸化水素及びヒドラジンを含む処理液を、循環配管から再循環系配管に供給する。Fe2+、Zn2+が再循環系配管の内面に吸着され、Znフェライト皮膜がその内面に形成される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
原子力プラントの構成部材の、冷却材と接する表面に、亜鉛(II)イオン及びニッケル(II)イオンのいずれか、及び鉄(II)イオンを含む皮膜形成液を接触させ、前記表面に、亜鉛を含むフェライト皮膜及びニッケルを含むフェライト皮膜のいずれかの皮膜を形成することを特徴とする原子力プラント構成部材への放射性核種の付着抑制方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
出願人引用 (2件)
審査官引用 (8件)
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