特許
J-GLOBAL ID：200903040032507384

リソグラフィ装置、較正方法、較正プレート、デバイス製造方法及びそれにより製造されたデバイス

発明者：
レファシール、レオン、マルティン

レファシール、レオン、マルティン について

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ブルインスマ、アナスタシオス、ヤコブス、アニケトゥス

ブルインスマ、アナスタシオス、ヤコブス、アニケトゥス について

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クリンクハメル、ヤコブ、フレデリック、フリソ

クリンクハメル、ヤコブ、フレデリック、フリソ について

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ニーマイヤー、ゲリット、ヨハネス

ニーマイヤー、ゲリット、ヨハネス について

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デッケルス - ログ、ペトラ、アルベルティナ、マルガレタ

デッケルス - ログ、ペトラ、アルベルティナ、マルガレタ について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (1件)： 森下 賢樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-546874
公開番号（公開出願番号）：特表2007-517395
出願日： 2004年12月28日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
要約：
本発明の一実施例による方法は、少なくとも1つのアライメント・マーカ40と、少なくとも1つのハイト・プロファイル46とを有する較正プレート38を使用して実行することができる。最初に、アライメント・センサを使用して較正プレートが配置される。次に、ハイト・センサを使用してハイト・プロファイルが測定される。次に、較正プレートを実質的に180度回転し、上記2つの操作が繰り返される。この処理手順によって2つの測定されたハイト・プロファイルが得られ、最適フィットを見出すべく、得られた2つの測定されたハイト・プロファイルが比較される。最適フィットを見出すために実行されるシフトの量を使用して、アライメント・マーカとハイト・センサの測定ポイントのX-Y位置の間の距離が決定される。
請求項（抜粋）：
較正方法であって、 較正プレートのマーカを整合位置へ移動させる工程と、 前記較正プレートの第1のハイト・プロファイルを測定するためにハイト・センサを使用する工程と、 前記マーカを移動させる工程及び前記第1のハイト・プロファイルを測定するためにハイト・センサを使用する工程に引き続いて、前記較正プレートを実質的に180度回転させる工程と、 前記較正プレートを回転させる工程に引き続いて、前記マーカを再度前記整合位置へ移動させる工程と、 前記較正プレートを回転させる工程に引き続いて、前記較正プレートの第2のハイト・プロファイルを測定するために前記ハイト・センサを使用する工程と、 前記第1及び第2のハイト・プロファイルに基づいて、前記整合位置に対する前記ハイト・センサの測定スポットの位置を決定する工程を有する、較正方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/24
FI (5件)：
H01L21/30 525W ,  H01L21/30 525R ,  H01L21/30 525B ,  G01B11/00 A ,  G01B11/24 A
Fターム (21件)：
2F065AA04 ,  2F065AA07 ,  2F065AA19 ,  2F065AA24 ,  2F065AA51 ,  2F065BB27 ,  2F065CC00 ,  2F065EE00 ,  2F065FF61 ,  2F065LL12 ,  2F065QQ18 ,  2F065QQ25 ,  2F065TT02 ,  5F046CA04 ,  5F046CC20 ,  5F046EB01 ,  5F046ED02 ,  5F046FA17 ,  5F046FA20 ,  5F046FC03 ,  5F046FC04
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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