ドレッシング装置及びポリッシング装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡邉勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-350820
公開番号（公開出願番号）：特開2002-154048
出願日： 2000年11月17日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：

【要約】【目的】研磨テーブル上の研磨面に凹凸があっても、これを容易且つ確実に平坦化させて、効率的に研磨面の再生を行なうことができるドレッシング装置を提供する。【構成】被研磨物Wに摺動して被研磨物Wを研磨する研磨テーブル35の研磨面35aをドレッシングするドレッシング装置50において、研磨面35aをドレッシングする長尺の矩形状に形成されたドレッサ51を有し、ドレッサ51のドレッシング面51aを研磨面35aに接触する平坦面51a-1と、平坦面51a-1から研磨面35aとは離間する方向に傾斜したテーパ面51a-2,51a-3又は平坦面51a-1から研磨面35aとは離間する方向に延びる曲面に形成した。

請求項（抜粋）：

被研磨物に摺動して該被研磨物を研磨する研磨テーブルの研磨面をドレッシングするドレッシング装置において、前記研磨面をドレッシングする長尺の矩形状に形成されたドレッサを有し、該ドレッサのドレッシング面を前記研磨面に接触する平坦面と、該平坦面から研磨面とは離間する方向に傾斜したテーパ面又は該平坦面から研磨面とは離間する方向に延びる曲面に形成したことを特徴とするドレッシング装置。

IPC (5件)：

B24B 37/00 , B24B 53/02 , B24B 53/12 , B24B 55/06 , H01L 21/304 622

FI (5件)：

B24B 37/00 A , B24B 53/02 , B24B 53/12 Z , B24B 55/06 , H01L 21/304 622 M

Fターム (13件)：

3C047AA16 , 3C047AA34 , 3C047EE18 , 3C047FF08 , 3C047FF19 , 3C058AA07 , 3C058AA11 , 3C058AA16 , 3C058AA19 , 3C058AB04 , 3C058CB01 , 3C058CB05 , 3C058DA17

引用特許：

審査官引用 (6件)

平坦化方法及び平坦化装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-153337 出願人：ソニー株式会社
研磨パッドのためのプリコンディショナおよびその使用方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-029945 出願人：モトローラ・インコーポレイテッド
ケミカルメカニカルポリシングシステムのリニアコンディショナー装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-322074 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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