フェムト秒レーザーを用いた特殊光学系

発明者： , , ,
出願人/特許権者： , , ,
代理人 (1件)：小池晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-059307
公開番号（公開出願番号）：特開2003-255262
出願日： 2002年03月05日
公開日（公表日）： 2003年09月10日
要約：

【要約】【課題】フェムト秒パルスレーザービームを用いたレーザー加工において、平底溝や多角形状での穴の形成または切断加工及び多点加工などの種々の加工を可能とする。【解決手段】ビーム径方向の光強度分布がガウシアン分布となっているフェムト秒パルスレーザービーム1が入射される多円形状をなす複数の凸または凹レンズからなるマイクロレンズアレイ2と、このマイクロレンズアレイ2を構成する各レンズを経て整形、変形された各レーザービームを像面4上に結像させる対物レンズ3とを備えている。

請求項（抜粋）：

ビーム径方向の光強度分布がガウシアン分布となっているフェムト秒パルスレーザービームが入射される複数の凸レンズまたは凹レンズからなるマイクロレンズアレイと、上記マイクロレンズアレイを構成する各凸レンズまたは凹レンズを経た各レーザービームを像面上に結像させる対物レンズとを備え、上記像面におけるフェムト秒パルスレーザービームのビーム径方向の光強度分布は、略々矩形状となっていることを特徴とするフェムト秒レーザーを用いた特殊光学系。

IPC (3件)：

G02B 27/09 , G02B 3/00 , H01S 3/00

FI (3件)：

G02B 3/00 A , H01S 3/00 B , G02B 27/00 E

Fターム (4件)：

5F072JJ20 , 5F072KK30 , 5F072SS08 , 5F072YY06

引用特許：

審査官引用 (7件)

金属表面から酸化物を除去する方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-068783 出願人：アームコ・インコーポレイテッド
レーザーアニール方法およびレーザーアニール装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-212060 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
特開平4-066901

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