特許
J-GLOBAL ID:200903040584558102
走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-271686
公開番号(公開出願番号):特開2003-075750
出願日: 2001年09月07日
公開日(公表日): 2003年03月12日
要約:
【要約】【課題】 簡単な位置合わせでも高精度な同期検出が可能で、かつ高密度化された高性能な走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置を得ること。【解決手段】 光源手段1から射出された光束を入射光学手段21を介して偏向手段5に導光し、偏向手段により偏向された光束を走査光学手段6により被走査面7上に導光し、被走査面上の光走査を、被走査面上に入射する光束の一部を同期検出用光学系10で同期検出手段8に導き、同期検出手段で得た同期信号を用いて行う際、光源手段を構成する光源と、同期検出手段を構成する同期検出器とは同一の基板11上に設けられており、基板は入射光学手段の光軸方向に垂直な面内で回動可能な構造であり、同期検出器に入射する光束は副走査方向に長い形状をしていること。
請求項(抜粋):
光源手段から射出された光束を入射光学手段を介して偏向手段に導光し、該偏向手段により偏向された光束を走査光学手段により被走査面上に導光し、該被走査面上の光走査を、該被走査面上に入射する光束の一部を同期検出用光学系を含む同期検出手段に導き、該同期検出手段で得た同期信号を用いて行う走査光学装置において、該光源手段を構成する光源と、該同期検出手段を構成する同期検出器とは同一の基板上に設けられており、該基板は該入射光学手段の光軸方向に垂直な面内で回動可能な構造であり、該同期検出器に入射する光束は副走査方向に長い形状をしていることを特徴とする走査光学装置。
IPC (5件):
G02B 26/10
, B41J 2/44
, G02B 13/00
, H04N 1/036
, H04N 1/113
FI (6件):
G02B 26/10 A
, G02B 26/10 F
, G02B 13/00
, H04N 1/036 Z
, H04N 1/04 104 A
, B41J 3/00 D
Fターム (43件):
2C362AA07
, 2C362AA13
, 2C362AA48
, 2C362BA04
, 2C362BA48
, 2C362BA70
, 2C362BA71
, 2C362BB03
, 2C362DA27
, 2H045CA88
, 2H045CA89
, 2H045DA02
, 2H087KA19
, 2H087LA22
, 2H087NA09
, 2H087PA02
, 2H087PA17
, 2H087PB02
, 2H087QA03
, 2H087QA12
, 2H087RA07
, 2H087RA08
, 5C051AA02
, 5C051CA07
, 5C051DB02
, 5C051DB22
, 5C051DB24
, 5C051DB30
, 5C051DC02
, 5C051DC04
, 5C051DC07
, 5C051DE02
, 5C051FA01
, 5C072AA03
, 5C072BA04
, 5C072HA02
, 5C072HA06
, 5C072HA09
, 5C072HA13
, 5C072HB08
, 5C072HB13
, 5C072XA01
, 5C072XA05
引用特許:
審査官引用 (12件)
-
複数ビーム書込装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-031355
出願人:キヤノン株式会社
-
特開平3-131817
-
光走査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-256289
出願人:株式会社リコー
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