特許
J-GLOBAL ID：200903040820319157
マスクパターン検証装置、その方法およびそのプログラムを記録した媒体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-080905
公開番号（公開出願番号）：特開平11-282151
出願日： 1998年03月27日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：
【要約】【課題】 超解像技術によって生成されるマスクパターンの検証を容易に行なうことが可能なマスクパターン検証装置を提供すること。【解決手段】 マスクパターン検証装置は、半導体回路データからレイアウトデータを生成するための半導体回路レイアウト部21と、半導体回路レイアウト部21によって生成されたレイアウトデータのパターンをライン幅とスペース幅とを加えたピッチに基づいて検証するための超解像対応パターン検証部22と、超解像対応パターン検証部22によって検出されたピッチのエラー箇所の光学シミュレーションを行ない、光強度を出力するための光学シミュレーション部23と、光学シミュレーション部23によって出力された光強度に基づいてコンターを生成し、出力するためのコンター出力部24とを含む。
請求項（抜粋）：
半導体回路データからレイアウトデータを生成するためのレイアウト生成手段と、前記レイアウト生成手段によって生成されたレイアウトデータのパターンをライン幅とスペース幅とを加えたピッチに基づいて検証するためのパターン検証手段と、前記パターン検証手段によって検出されたピッチのエラー箇所の光学シミュレーションを行ない、光強度を出力するための光学シミュレーション手段と、前記光学シミュレーション手段によって出力された光強度に基づいてコンターを生成し、出力するためのコンター出力手段とを含むマスクパターン検証装置。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, G01B 11/24
, G01N 21/88
, H01L 21/027
G03F 1/08 S
, G01B 11/24 C
, G01N 21/88 E
, H01L 21/30 502 V
