特許
J-GLOBAL ID:200903051999359115

パターンの形成方法およびパターンを有する物品

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-236223
公開番号(公開出願番号):特開2006-114882
出願日: 2005年08月17日
公開日(公表日): 2006年04月27日
要約:
【課題】モールドのパターンを連続して精密に基板上に転写できるパターンの形成方法およびパターンが精密に転写された物品を提供する。【解決手段】フッ素含有量が40〜70質量%の重合性化合物(A)および重合開始剤(B)を含有する硬化性材料を基板12上に塗布する工程と、凹凸パターン13が形成されたモールド14を基板12上の硬化性材料に押しつける工程と、硬化性材料を硬化させる工程と、硬化性材料の硬化物16からモールド14を分離する工程とを有するパターンの形成方法により解決される。【選択図】図3
請求項(抜粋):
フッ素含有量が40〜70質量%の重合性化合物(A)、および重合開始剤(B)を含有する硬化性材料を基板上に塗布する工程と、表面にパターンが形成されたモールドを、パターンが硬化性材料に接触するように、基板上の硬化性材料に押しつける工程と、モールドを硬化性材料に押しつけた状態で硬化性材料を硬化させる工程と、硬化性材料の硬化物からモールドを分離する工程とを有することを特徴とするパターンの形成方法。
IPC (1件):
H01L 21/027
FI (1件):
H01L21/30 502D
Fターム (1件):
5F046AA28
引用特許:
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (11件)
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