アクティブマトリクス基板の欠陥修正方法及び液晶パネルの製造方法並びにアクティブマトリクス基板の欠陥修正装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-033500
公開番号（公開出願番号）：特開2000-231121
出願日： 1999年02月10日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：

【要約】【課題】アクティブマトリクス基板の完成後、対向基板との貼り合わせ前に欠陥修正を確実に行う。【解決手段】走査配線、信号配線及びスイッチング素子を覆う層間絶縁膜6上に画素電極1を有するアクティブマトリクス基板に対して、層間絶縁膜6に任意波長のレーザ光を照射して層間絶縁膜6を部分的に除去した後で、欠陥部8または層間絶縁膜6の除去部の下層にある配線部に任意波長のレーザ光を照射して欠陥部8を除去するかまたは配線部を切断する。

請求項（抜粋）：

複数の走査配線及び複数の信号配線が絶縁膜を介して互いに交差するように設けられ、両配線の交差部近傍にスイッチング素子が設けられ、該走査配線、該信号配線及び該スイッチング素子を覆うように設けられた層間絶縁膜上に画素電極が設けられているアクティブマトリクス基板の短絡欠陥を修正する方法であって、該層間絶縁膜に任意波長のレーザ光を照射して修正部上の層間絶縁膜部分を除去する工程と、欠陥部または該層間絶縁膜の除去部の下層にある配線部に任意波長のレーザ光を照射して該欠陥部を除去するかまたは該配線部を切断する工程とを含むアクティブマトリクス基板の欠陥修正方法。

IPC (3件)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/13 101 , H01L 29/786

FI (3件)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/13 101 , H01L 29/78 612 A

Fターム (21件)：

2H088FA14 , 2H088HA01 , 2H088MA20 , 2H092GA35 , 2H092GA43 , 2H092GA48 , 2H092MA30 , 2H092NA07 , 2H092NA12 , 2H092NA15 , 2H092NA16 , 2H092NA29 , 2H092NA30 , 2H092PA01 , 5F110AA24 , 5F110AA27 , 5F110BB01 , 5F110HL03 , 5F110HL07 , 5F110NN02 , 5F110QQ30

引用特許：

審査官引用 (17件)

液晶表示体
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-225981 出願人：株式会社高度映像技術研究所
配線の断線修正方法並びにTFT基板及びその配線修正方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-326920 出願人：株式会社日立製作所
特開平1-210936

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