特許
J-GLOBAL ID：200903051361214837

マスク及びその製造方法、露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法

発明者：
山添 賢治

山添 賢治 について

, 
斉藤 謙治

斉藤 謙治 について

, 
鈴木 章義

鈴木 章義 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-031547
公開番号（公開出願番号）：特開2004-272228
出願日： 2004年02月09日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：
【課題】 微細なホール径を持ち、一又は複数のホールを有するパターンを、マスクを交換せずに、高解像度で露光可能なマスク及びその製造方法、露光方法及び装置を提供する。【解決手段】 所望のパターンと、当該パターンよりも寸法が小さい補助パターンとが配列されたマスクであって、前記所望のパターンの中心に交点をもつ仮想格子を仮定した場合に、前記仮想格子上の交点とは異なる位置に前記補助パターンの中心があることを特徴とするマスクを提供する。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法が小さい補助パターンとが配列されたマスクであって、前記所望のパターンの中心に交点をもつ仮想格子を仮定した場合に、前記仮想格子の交点とは異なる位置に前記補助パターンの中心があることを特徴とするマスク。
IPC (2件)：
G03F1/08 ,  H01L21/027
FI (4件)：
G03F1/08 A ,  G03F1/08 D ,  H01L21/30 502P ,  H01L21/30 515D
Fターム (9件)：
2H095BA01 ,  2H095BB02 ,  2H095BB36 ,  2H095BC09 ,  5F046AA25 ,  5F046CB01 ,  5F046CB05 ,  5F046CB17 ,  5F046DA12
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 米国特許出願公開第2002/177048号明細書
審査官引用 (6件)
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