特許
J-GLOBAL ID：200903042304444312

セラミック絶縁体の洗浄方法

発明者：
孫 正河

孫 正河 について


出願人/特許権者：
孫 正河

孫 正河 について


代理人 (1件)： 西川 惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-388246
公開番号（公開出願番号）：特開2003-126795
出願日： 2001年12月20日
公開日（公表日）： 2003年05月07日
要約：
【要約】【課題】乾式エッチング装置内の汚染された絶縁体部品に対して優れた洗浄効果を有し、セラミック絶縁体部品自身がほとんど損傷せずに高価なセラミック絶縁体部品の寿命を延長させることができるセラミック絶縁体の洗浄方法を提供する。【解決手段】前記目的を達成するために、本発明は乾式エッチング装置内の絶縁体部品を酸素雰囲気下、600〜1300°Cでか焼する段階を含むセラミック絶縁体の洗浄方法を提供する。
請求項（抜粋）：
乾式エッチング装置内の部品であるセラミック絶縁体を酸素雰囲気下、600°C〜1300°Cの範囲内にある所定温度で所定時間か焼して絶縁体の汚染物を除去するか焼段階を含むことを特徴とするセラミック絶縁体の洗浄方法。
IPC (5件)：
B08B 7/00 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/12 ,  B08B 5/02 ,  H01L 21/3065
FI (5件)：
B08B 7/00 ,  B08B 3/02 A ,  B08B 3/12 A ,  B08B 5/02 A ,  H01L 21/302 N
Fターム (25件)：
3B116AA46 ,  3B116BA08 ,  3B116BB01 ,  3B116BB82 ,  3B116BB83 ,  3B116BB88 ,  3B116BB90 ,  3B116BC01 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03 ,  3B201AA46 ,  3B201BA08 ,  3B201BB01 ,  3B201BB82 ,  3B201BB83 ,  3B201BB88 ,  3B201BB90 ,  3B201BC01 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  5F004AA15 ,  5F004DA26 ,  5F004DB02 ,  5F004DB03 ,  5F004FA08
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (4件)
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