特許
J-GLOBAL ID：200903042340292367

シャワーヘッド構造及びこれを用いた処理装置

発明者：
小田 尚史

小田 尚史 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-240831
公開番号（公開出願番号）：特開2008-066413
出願日： 2006年09月05日
公開日（公表日）： 2008年03月21日
要約：
【課題】ガス噴射面に堆積する不要な付着膜を大幅に抑制してクリーニング処理等のメンテナンス頻度を少なくし、もってスループットを大幅に向上させることが可能なシャワーヘッド構造を提供する。【解決手段】被処理体Wに対して所定の処理を施すために処理容器34内の処理空間Sへ複数種類の所定のガスを噴射するシャワーヘッド構造68において、内部に複数のガス拡散室84、86を有し、前記処理空間を臨む面が通気性のあるポーラス部材よりなるガス噴射板80により区画された容器状のシャワーヘッド本体70と、前記複数のガス拡散室の内で前記ガス噴射板と接しないガス拡散室から延びて前記ガス噴射板を貫通して設けられるガス噴射管72とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被処理体に対して所定の処理を施すために処理容器内の処理空間へ複数種類の所定のガスを噴射するシャワーヘッド構造において、 内部に複数のガス拡散室を有し、前記処理空間を臨む面が通気性のあるポーラス部材よりなるガス噴射板により区画された容器状のシャワーヘッド本体と、 前記複数のガス拡散室の内で前記ガス噴射板と接しないガス拡散室から延びて前記ガス噴射板を貫通して設けられるガス噴射管と、 を備えたことを特徴とするシャワーヘッド構造。
IPC (7件)：
H01L 21/31 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/306 ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/304 ,  B08B 5/00 ,  B05B 1/18
FI (8件)：
H01L21/31 B ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 101G ,  H01L21/302 101B ,  C23C16/455 ,  H01L21/304 643C ,  B08B5/00 Z ,  B05B1/18 101
Fターム (33件)：
3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116BB33 ,  4F033AA14 ,  4F033BA01 ,  4F033BA03 ,  4F033CA01 ,  4F033DA05 ,  4F033EA01 ,  4F033NA01 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA05 ,  5F004AA15 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB18 ,  5F004BB26 ,  5F004BB28 ,  5F004BD04 ,  5F045AA04 ,  5F045AB31 ,  5F045AB40 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045AC12 ,  5F045BB08 ,  5F045BB15 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EF05 ,  5F045EH13 ,  5F045EK07
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (9件)
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