特許
J-GLOBAL ID：200903042593843866
減衰する埋め込まれた移相フォトマスク・ブランク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小田島 平吉 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-542466
公開番号（公開出願番号）：特表2000-511301
出願日： 1997年05月09日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：
【要約】波長<400nmにおいて少なくとも0.001の光学的透過率を有して、180°の移相を作り出しうる減衰する埋め込まれた移相フォトマスク・ブランクは、光学的に透明な材料及び光学的に吸収性の材料の、周期的なまたは非周期的な交互の層を含んでなり、そして光学的に透明な材料及び光学的に吸収性の材料を、好ましくは蒸着により基板上に付着させることによって製造される。
請求項（抜粋）：
光学的に透明な材料及び光学的に吸収性の材料の交互の層を含んでなる、選択されたリソグラフィー波長(<400nm)において少なくとも0.001の光学的透過率を有して、180°の移相を作り出しうる減衰する埋め込まれた移相フォトマスク・ブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
