高固体物質の処理

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：河備健二
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-547332
公開番号（公開出願番号）：特表2007-516930
出願日： 2004年12月21日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
要約：

本発明は、加熱反応器域において、温度200°C〜500°C、滞留時間24時間未満で連続的または半連続的に形成されるマイクロポーラスまたはメソポーラス組成物を含む。前記試薬は、固体および液体試薬であり、前記固体試薬は、全試薬の45%〜98%の重量比率を有する。本発明はまた、マイクロポーラスまたはメソポーラス組成物の連続または半連続水熱製造方法を含む。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

加熱反応器域において、温度200°C〜500°C、滞留時間24時間未満で、固体および液体試薬によって連続的または半連続的に形成されるマイクロポーラスまたはメソポーラス組成物であって、前記固体試薬は、前記試薬の45%〜98%の重量比率を有することを特徴とするマイクロポーラスまたはメソポーラス組成物。

IPC (2件)：

C01B 39/40 , C01B 39/48

FI (2件)：

C01B39/40 , C01B39/48

Fターム (21件)：

4G073BA64 , 4G073BA70 , 4G073BA80 , 4G073BB04 , 4G073BB05 , 4G073BB48 , 4G073CZ13 , 4G073CZ17 , 4G073CZ25 , 4G073CZ41 , 4G073CZ55 , 4G073FB12 , 4G073FB14 , 4G073FB25 , 4G073FB26 , 4G073FB36 , 4G073FC12 , 4G073FC25 , 4G073FC27 , 4G073FC28 , 4G073GA13

引用特許：

出願人引用 (13件)

米国特許出願公開第2003/0035756A1号明細書
米国特許第4,374,093号明細書
米国特許第5,558,851号明細書

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審査官引用 (12件)

スラリー反応法を用いる人工ゼオライトの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-058895 出願人：有限会社ケー・イー・エム
接触反応管・回転ディスク反応器方式によるゼオライトの連続製造方法および連続製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-381616 出願人：霜田敏雄
人工ゼオライトの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-164540 出願人：逸見彰男, 坂上越朗

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