特許
J-GLOBAL ID：200903043630587820
フォトマスクおよびそれを用いたプラズマディスプレイ部材の製造方法並びにプラズマディスプレイ
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-212004
公開番号（公開出願番号）：特開2001-042504
出願日： 1999年07月27日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：
【要約】【課題】端部の跳ね上がり、剥がれ、盛り上がりのない隔壁を有するプラズマディスプレイ部材の製造方法およびそれに用いるフォトマスクを提供する。【解決手段】基板上に遮光部と透光部を所望のパターンで配列したフォトマスクであって、少なくとも前記パターン端部に相当する部位に光拡散性または光異方性を付与することを特徴とするフォトマスクおよび基板上に、感光性ペーストを塗布し、前記フォトマスクを介して露光する工程、現像液により現像する工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレイ部材の製造方法。
請求項（抜粋）：
基板上に遮光部と透光部を、ストライプ状または格子状のパターンで配列したフォトマスクであって、少なくとも前記パターン端部が光拡散性または光異方性であることを特徴とするフォトマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, H01J 9/02
, H01J 11/02
G03F 1/08 D
, H01J 9/02 F
, H01J 11/02 B
2H095BA12
, 2H095BB02
, 2H095BB36
, 2H095BC09
, 5C027AA09
, 5C040GF19
, 5C040JA02
, 5C040JA15
, 5C040JA22
, 5C040JA28
, 5C040JA32
, 5C040KB13
, 5C040LA17
, 5C040MA23
