特許
J-GLOBAL ID:200903043856211009
顕微鏡観察方法及びそれを用いるための顕微鏡
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
韮澤 弘
, 阿部 龍吉
, 蛭川 昌信
, 内田 亘彦
, 菅井 英雄
, 青木 健二
, 米澤 明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-414158
公開番号(公開出願番号):特開2005-173288
出願日: 2003年12月12日
公開日(公表日): 2005年06月30日
要約:
【課題】 結像倍率4倍以下の比較的低倍率で広い観察範囲で、空間周波数分布が比較的狭い範囲で、位相物体や表面の凹凸の観察を可能にする顕微鏡。【解決手段】 光源2と、この光源2からの光を観察物体4に導く照明光学系3と、この照明光学系3の略瞳位置28に配置される部分開口と、この部分開口を通過した光により照明された観察物体4の像を結像面19に結像する結像光学系15、16、18とを備え、結像面19に結像される像を観察するための接眼光学系6又は撮像光学系を備えた顕微鏡であって、部分開口の結像光学系の瞳位置30での像の径は、結像光学系の瞳の径より小さく設定されており、かつ、結像光学系の瞳位置30にその瞳の径に応じて大きさが変化する波面を導入する波面導入手段を備えている顕微鏡。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
顕微鏡の照明光学系の瞳位置に部分開口を配置し、前記部分開口を通過した光により照明された観察物体を、結像光学系の瞳位置にその瞳の径に応じて大きさが変化する波面を導入して、前記結像光学系の結像面に結像される像を観察することを特徴とする顕微鏡観察方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (11件):
2H052AA00
, 2H052AA03
, 2H052AB14
, 2H052AC04
, 2H052AC10
, 2H052AC17
, 2H052AC29
, 2H052AD31
, 2H052AD34
, 2H052AD35
, 2H052AF14
引用特許:
出願人引用 (2件)
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位相差顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-045697
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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微分干渉顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-277197
出願人:オリンパス光学工業株式会社
審査官引用 (11件)
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焦点検出装置及びそれを備えた光学顕微鏡又は光学検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-132188
出願人:オリンパス光学工業株式会社
-
位相差顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-339273
出願人:オリンパス光学工業株式会社
-
観察物体の物理量を検出するための装置およびこれを用いた検出方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-286103
出願人:オリンパス光学工業株式会社
-
光学装置及び顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-253097
出願人:オリンパス光学工業株式会社
-
顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-192665
出願人:オリンパス光学工業株式会社
-
位相差顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-045697
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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顕微鏡被検対象物のコントラスト化方法および装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願平6-510523
出願人:ライカミクロスコピーウントジュステーメゲーエムベーハー
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顕微鏡光学系
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-135795
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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位相差顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-247054
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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顕微鏡装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-151122
出願人:オリンパス光学工業株式会社
-
走査光学系
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-270529
出願人:旭光学工業株式会社
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引用文献:
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