特許
J-GLOBAL ID：200903044439954496

微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造法

発明者：
日置 毅

日置 毅 について

, 
前田 成実

前田 成実 について

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花元 幸夫

花元 幸夫 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-288264
公開番号（公開出願番号）：特開2002-099076
出願日： 2000年09月22日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
要約：
【要約】【課題】 保存後においても微粒子量が低減されたフォトレジスト組成物を製造する方法を提供する。【解決手段】 フォトレジスト組成物をポリテトラフルオロエチレン製のフィルターとポリエチレン製のフィルターとを通過させることを特徴とする微粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製法。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト組成物をポリテトラフルオロエチレン製のフィルターとポリエチレン製のフィルターとを通過させることを特徴とする微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製法。
IPC (7件)：
G03F 7/004 ,  B01D 39/16 ,  B01D 61/14 500 ,  B01D 71/26 ,  B01D 71/36 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F 7/004 ,  B01D 39/16 Z ,  B01D 61/14 500 ,  B01D 71/26 ,  B01D 71/36 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (21件)：
2H025AB16 ,  2H025BJ10 ,  2H025EA01 ,  2H096AA25 ,  2H096CA20 ,  2H096DA10 ,  4D006GA02 ,  4D006KA02 ,  4D006KB14 ,  4D006MA22 ,  4D006MC22 ,  4D006MC22X ,  4D006MC30 ,  4D006MC30X ,  4D006MC54 ,  4D006MC54X ,  4D006PB20 ,  4D006PC80 ,  4D019AA03 ,  4D019BA13 ,  4D019BB08
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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