微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-288264
公開番号（公開出願番号）：特開2002-099076
出願日： 2000年09月22日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
要約：

【要約】【課題】保存後においても微粒子量が低減されたフォトレジスト組成物を製造する方法を提供する。【解決手段】フォトレジスト組成物をポリテトラフルオロエチレン製のフィルターとポリエチレン製のフィルターとを通過させることを特徴とする微粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製法。

請求項（抜粋）：

フォトレジスト組成物をポリテトラフルオロエチレン製のフィルターとポリエチレン製のフィルターとを通過させることを特徴とする微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製法。

IPC (7件)：

G03F 7/004 , B01D 39/16 , B01D 61/14 500 , B01D 71/26 , B01D 71/36 , G03F 7/38 501 , H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/004 , B01D 39/16 Z , B01D 61/14 500 , B01D 71/26 , B01D 71/36 , G03F 7/38 501 , H01L 21/30 502 R

Fターム (21件)：

2H025AB16 , 2H025BJ10 , 2H025EA01 , 2H096AA25 , 2H096CA20 , 2H096DA10 , 4D006GA02 , 4D006KA02 , 4D006KB14 , 4D006MA22 , 4D006MC22 , 4D006MC22X , 4D006MC30 , 4D006MC30X , 4D006MC54 , 4D006MC54X , 4D006PB20 , 4D006PC80 , 4D019AA03 , 4D019BA13 , 4D019BB08

引用特許：

審査官引用 (8件)

積層型フィルタエレメント
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-161529 出願人：ポール・コーポレーション
ホトレジスト溶液供給方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-186607 出願人：東京応化工業株式会社
溶剤、溶液型キノンジアジド系感光剤、フォトレジスト組成物および洗浄液
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-209739 出願人：住友化学工業株式会社

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