特許
J-GLOBAL ID：200903044746567262

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者：
内海 義之

内海 義之 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-060005
公開番号（公開出願番号）：特開2007-240651
出願日： 2006年03月06日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：
【課題】PEB Sensitivity及び解像性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)は、下記一般式(a0-1)で表される構成単位(a0)を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。[化1][式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基を示し;n’は1または2の整数を示す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、 前記樹脂成分(A)は、下記一般式(a0-1)
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/004 ,  C08F 20/36
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  G03F7/004 501 ,  C08F20/36
Fターム (30件)：
2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA04R ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA15R ,  4J100BA40R ,  4J100BC02R ,  4J100BC03R ,  4J100BC04R ,  4J100BC08R ,  4J100BC09R ,  4J100BC12R ,  4J100BC49P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (7件)
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