ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：小島隆司 , 重松沙織 , 小林克成 , 石川武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-114084
公開番号（公開出願番号）：特開2007-114728
出願日： 2006年04月18日
公開日（公表日）： 2007年05月10日
要約：

【課題】高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少ないポジ型レジスト材料を提供する。【解決手段】一般式(a)及び(b)で示される繰り返し単位を有する高分子化合物を含有するするポジ型レジスト材料。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

少なくとも下記一般式(a)及び(b)

IPC (3件)：

G03F 7/039 , C08F 220/18 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 , C08F220/18 , H01L21/30 502R

Fターム (37件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CC04 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100BA03P , 4J100BA03S , 4J100BA11Q , 4J100BA15P , 4J100BA16P , 4J100BA20P , 4J100BA20Q , 4J100BC03R , 4J100BC04R , 4J100BC07R , 4J100BC07S , 4J100BC49P , 4J100BC52Q , 4J100BC53R , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (12件)

特公平2-27660号公報
ラクトン構造を有する新規(メタ)アクリレート化合物、重合体、フォトレジスト材料、及びパターン形成法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-179614 出願人：信越化学工業株式会社
新規樹脂およびそれを含有するフォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-154310 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー

全件表示

審査官引用 (7件)

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-095523 出願人：富士写真フイルム株式会社
重合性モノマー及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-352136 出願人：三菱レイヨン株式会社
樹脂混合物を含むフォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-009643 出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

全件表示

前のページに戻る