特許
J-GLOBAL ID：200903045213775293
光学多層膜フィルタ、光学多層膜フィルタの製造方法および電子機器装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
上柳 雅誉
, 須澤 修
, 宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-201556
公開番号（公開出願番号）：特開2009-139925
出願日： 2008年08月05日
公開日（公表日）： 2009年06月25日
要約：
【課題】ほこりの付着を低減し、かつ付着したほこりを容易に除去する光学多層膜フィルタおよびその製造方法を提供する。【解決手段】光学多層膜フィルタ10は、ガラス基板1上に形成された複数層からなる無機薄膜2を有する。無機薄膜2は、ガラス基板の表面にTiO2層とSiO2層とを順次、交互に積層し、最表層がSiO2層(2L30)で構成され、無機薄膜2の最表層の表面にフッ素含有有機珪素化合物膜5が形成されている。そして、最表層を構成するSiO2層の密度が1.9〜2.1g/cm3であり、さらに無機薄膜2の最表層のSiO2層を1層目とした時、1層目のSiO2層の下層の2層目(2H30)および4層目(2H29)に密度が4.1〜4.8g/cm3のTiO2層、および3層目(2L29)に密度が1.9〜2.1g/cm3のSiO2層が選択的に形成されている。これらのSiO2層およびTiO2層は真空蒸着法を用いて成膜する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に複数層からなる無機薄膜を有する光学多層膜フィルタであって、
前記無機薄膜は、低密度形成部と高密度形成部とから構成され、
前記無機薄膜の表面上にフッ素含有有機珪素化合物膜が形成され、
前記低密度形成部は、前記無機薄膜の最表層または該最表層を含む複数の層が、低密度
の酸化チタン層または低密度の酸化珪素層の少なくともいずれかより形成され、
前記高密度形成部は、前記低密度形成部と前記基板との間に、前記低密度の酸化珪素よ
りも高密度の酸化珪素層と前記低密度の酸化チタン層よりも高密度の酸化チタン層とを積
層して形成され、
前記低密度形成部の総膜厚が280nm以内であることを特徴とする光学多層膜フィル
タ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (9件)：
2H048GA05
, 2H048GA09
, 2H048GA14
, 2H048GA32
, 2H048GA60
, 2H048GA61
, 2K009AA02
, 2K009CC26
, 2K009CC42
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
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